离子研磨仪 返回列表页

　　GU-AI系列离子加工仪器具有优秀的无磁聚集离子束设计，实现高效的大面积样品加工，并可将样品表面的损伤层或变形层降至低，获得样品内部真实的结构信息。

　　GU-AI8000是可获得高质量平整面的离子研磨仪。无论是截面样品制备,亦或是大面积平面抛光，GU-AI8000均可以提供有效的解决方案，其可制备多种材料类型样品，包括金属样品、多孔样品、脆性样品、复合材料样品.…适用于电子电器行业、新能源行业、汽车行业、地质行业等。GU-AI8000是可获得高质量平整面的离子研磨仪。无论是截面样品制备,亦或是大面积平面抛光，GU-AI8000均可以提供有效的解决方案，其可制备多种材料类型样品，包括金属样品、多孔样品、脆性样品、复合材料样品.…适用于电子电器行业、新能源行业、汽车行业、地质行业等。

　　产品参数

　　离子源：双离子源，安装角度90°、180°可选；

　　离子束能量：0—10KeV；

　　离子枪与样品加工面夹角：0—180°；3°、6°或9°；

　　加工速率：≤300um/h，Si；---；

　　可容样品尺寸：≤25×12×30mm；≤25×25×30mm；

　　挡板材料：钼或钛；---；

　　真空泵：隔膜泵＋涡轮分子泵（无需冷却水）

　　大气到工作状态不高于3min；

　　制冷：半导体制冷-30℃；

　　工作气体：氩、氦、氧、氙；

　　保护功能：过流、真空双保护；

　　控制系统：基于开源操作系统自主研发，具有自主产权。