常备库存：ORC日本UV照射装置HUV-100高精度测量：如 ORC 的 UV-351，测量波长范围为 310-385nm，精度在 &a...

常备库存：ORC日本UV照射装置OHD-110M-ST高精度测量：如 ORC 的 UV-351，测量波长范围为 310-385nm，精度在 &a...

常备库存：ORC日本UV照射装置HUV-300高精度测量：如 ORC 的 UV-351，测量波长范围为 310-385nm，精度在 ±...

大量现货：ORC日本UV照射装置QRU-2161-D高精度测量：如 ORC 的 UV-351，测量波长范围为 310-385nm，精度在 ±1.5% ...

大量现货：ORC日本UV照射装置QRU-2161-H高精度测量：如 ORC 的 UV-351，测量波长范围为 310-385nm，精度在 ±1.5% ...

大量现货：日本ORCUV照射装置VUM-3500高精度测量：如 ORC 的 UV-351，测量波长范围为 310-385nm，精度在 ±1.5...

大量现货：日本ORCUV照射装置VUS-3300高精度测量：如 ORC 的 UV-351，测量波长范围为 310-385nm，精度在 ±1.5% 以内...

大量现货：日本ORCUV照射装置HMW-615N-3高精度测量：如 ORC 的 UV-351，测量波长范围为 310-385nm，精度在 &am...

原装新品：日本ORCUV照射装置HMW-615N-4高精度测量：如 ORC 的 UV-351，测量波长范围为 310-385nm，精度在 &am...

原装新品：日本ORCUV照射装置VUM-3073F高精度测量：如 ORC 的 UV-351，测量波长范围为 310-385nm，精度在 &amp...

原装新品：日本ORCUV照射装置VUS-3100高精度测量：如 ORC 的 UV-351，测量波长范围为 310-385nm，精度在 ±1.5...

原装新品：日本ORCUV照射装置VUS-3100-R高精度测量：如 ORC 的 UV-351，测量波长范围为 310-385nm，精度在 ±1.5% ...

中村现货：日本ORC光刻系统EDi系列EDi-8310兼容多种应用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技术，适用于多种半导体制造...

中村库存：日本ORC光刻系统EDi系列EDi-8308兼容多种应用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技术，适用于多种半导体制造...

原装新品：日本ORC光刻系统EDi系列EDi-5308兼容多种应用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技术，适用于多种半导体制造...

原装新品：日本ORC臭氧发生器ARV-O3ME兼容多种应用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技术，适用于多种半导体制造场景。宽...

中村到货：日本ORC臭氧发生器ARV-O3MG兼容多种应用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技术，适用于多种半导体制造场景。宽...

中村供应：日本ORC 臭氧发生器ARV-O3XP兼容多种应用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技术，适用于多种半导体制造场景。...

中村供应：日本ORC臭氧发生模块ARV-M1000A兼容多种应用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技术，适用于多种半导体制造场...

现货库存：日本ORC臭氧发生模块ARV-M500A兼容多种应用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技术，适用于多种半导体制造场景...