SciDre高温高压光学浮区炉 返回列表页

SciDre高温高压光学浮区炉特点

●  采用垂直式光路设计

●  采用高照度短弧氙灯，多种功率规格可选

●  熔区温度：>3000℃

●  熔区压力：10bar/50bar/100bar/150bar/300bar等多种规格可选

●  氧气/氩气/氮气/空气/混合气等多种气路可选

●  采用光栅控制技术，加热功率从0-100% 连续可调

●  样品腔可实现低至10-5mbar真空环境

●  丰富的可升选件

SciDre高温高压光学浮区炉技术参数

熔区温度：高达2000 - 3000℃以上

熔区压力：高至10、50、100、150、300 bar可选

熔区真空：1*10-2 mbar或 1*10-5 mbar可选

熔区气氛：Ar、O2、N2等可选

气体流量：0.25 – 1 L/min流量可控

氙灯功率：3kW至15kW可选

料棒台尺寸：6.8mm或9.8mm可选

拉伸速率：0.1-50mm/h

调节速率：0.6 mm/s

拉伸尺寸：130mm，150mm，195mm可选

旋转速率：0-70rpm

用电功率：400V三相 63A 50Hz

主机尺寸：330cm*163cm*92cm （不同规格略有差异）

用户单位

中国科学院物理研究所

中国科学院固体物理研究所

北京师范大学

中山大学

南昌大学

上海大学

北京大学

北京航空航天大学

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