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低压化学气相沉积系统LPCVD 简介:1. 满足石墨烯和碳纳米管研究的高温和快速冷却要求2. 直径200毫米的石英室3. 内部石英管的设计便于拆卸和清洗4. 基...
TFS 500 是薄膜镀膜应用的理想选择。作为第一个 Beneq 反应器模型,已被证明是用于深入研究原子层沉积研究和稳健批处理的多功能工具。TFS 500 是多...
Beneq P800 专门设计用于涂覆复杂形状的大零件或大批量的小零件。我们的客户将 P800 用于光学镀膜、半导体设备部件的防腐镀膜,以及在玻璃或金属板上使用...
Beneq TFS 200 是有史以来最灵活的原子层沉积研究平台,专为学术研究和企业研发而设计。Beneq TFS 200 经过专门设计,可最大限度地减少多用户...
Kurt J. Lesker Company (KJLC) ALD150LE™是我们但极其灵活的原子层沉积 (ALD) 系统,专为入门级到中级用户而...
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