微型PECVD系统_高真空镀膜机-北京鸿瑞正达科技有限公司

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产品简介：微型PECVD系统采用Ø3"×16"的石英腔体，内部设有加热圈对样品进行加热，温度可以达到400℃，且采用程序化控温，系统还配有2通道混气装置和双旋机械泵，整套系统安放于移动架上，便于实验操作

产品简介：微型 PECVD 系统采用 Ø 3" × 16" 的石英腔体，内部设有加热圈对样品进行加热，温度可以达到 400℃ ，且采用程序化控温，系统还配有 2 通道混气装置和双旋机械泵，整套系统安放于移动架上，便于实验操作。本系统系对于薄膜生长和纳米线的制作是的选择。

产品型号	微型 PECVD 系统
安装条件	本设备要求在海拔 1000m 以下，温度 25℃±15℃ ，湿度 55%Rh±10%Rh 下使用。 1、水：不需要 2、电： AC220V 50Hz，必须有良好接地 3、气：设备腔室内需充注气体，需自备气瓶气源 4、工作台：尺寸 600mm×600mm×700mm ，承重 50kg 以上 5、通风装置：需要
主要特点	1、加热圈套有石英罩，以减小热量损失。 2、样品可置于加热线圈内，以达到更好的加热效率和温度均匀性。 3 、采用 PID 方式调节温度，可设置 30 段升降温程序。 4、设有一滑动法兰安装于移动加上，以便于样品的放入和取出。
	5 、已通过 CE 认证。
技术参数	等离子源 1、等离子体射频电源： 110V/220V 50Hz/60Hz <100W 2、输出频率： 13.56MHz

3、射频功率： 7.2W 、10.5W 、18W 三档，可调节

4、腔体尺寸：外径 Ø76.2mm×内径 Ø68.58mm×长 406.4mm

5 、加热圈：电源 220V ，功率 500W ，外径 Ø50mm×内径 Ø40mm×70mm ，并套有内径 Ø50.8mm×Ø75mm 的石英罩

6、法兰： Ø3″不锈钢法兰，设有 KF-25 真空泵接口、 1/4″卡套接头、不锈钢针阀

7、通入气体：可通入多种惰性气体，如 N2 、Ar，不可通入易燃易爆性气体

8、真空度： 10-2torr （机械泵）

两通道混气系统

1、浮子流量计： 10ml/min-100ml/min ，2 个

2、针阀： 304 不锈钢针阀， 3 个

3、压力表： -0.1MPa-1.0MPa（0.01MPa/grid）， 3 个

真空泵

1、抽气速率： 120L/min

2、接口： KF-25

产品规格

1 、尺寸：等离子源 216mm×254mm×203mm ，控制盒 102mm×254mm×203mm，两通道混气系统 340mm×300mm×180mm ，移动架 600mm×600mm×1250mm

2、重量： 32kg