半导体前道工艺设备,半导体前道工艺设备价格|报价-深圳市矢量科学仪器有限公司

投影步进电机
AP200/300 系列光刻系统基于 Veeco 的可定制 Unity 平台™构建，可提供覆盖层、分辨率和侧壁轮廓性能，并可实现高度自动化和具有成本...
型号： AP200/300 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/12 10:21:06 对比

投影步进光刻
Lancer离子束蚀刻系统
新型 Lancer™ 离子束蚀刻（IBE）系统专为开发和生产智能手机、自动驾驶汽车和其他可实现连接性、功能性和移动性的“物联网"设备中的下一代电...
型号：所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/12 10:20:00 对比

离子束蚀刻
原子层刻蚀
ALE是一种先进的刻蚀技术，可以针对较浅的微结构进行出色的深度控制。随着器件微结构尺寸越来越小，要达到器件的更高性能可以通过ALE技术所具有的精度来实现。在如...
型号： PlasmaPro... 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/12 10:19:40 对比

原子层刻蚀工艺
等离子体蚀刻系统
SI 500 C 代表了专为低温蚀刻而设计的电感耦合等离子体（ICP）处理的前沿。SENTECH SI 500 C 低温 ICP-RIE 等离子体蚀刻系统代...
型号： SI 500 C 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/12 10:19:16 对比

低温蚀刻
等离子蚀刻系统
SENTECH SI 500 ICP-RIE等离子体蚀刻系统使用具有低离子能量的电感耦合等离子体（ICP）源，可实现低损伤蚀刻和纳米结构。
型号： SENTECH S... 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/12 10:18:54 对比

电感耦合等离子体
开盖等离子蚀刻系统
等离子蚀刻系统 Etchlab 200 具有经济高效的 RIE 直接加载的优点。SENTECH Etchlab 200 RIE等离子蚀刻系统代表了一系列直接加载...
型号： Etchlab 2... 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/12 10:18:30 对比

等离子蚀刻系统
ICPCVD
PlasmaPro 80是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。它易于放置，便于使用，且能够确保工艺性能。直开式设计可实现...
型号： PlasmaPro... 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/12 10:13:43 对比

ICPCVD 刻蚀沉积
离子束沉积
离子束沉积产品是因为它们能够生产具有高质量，致密和表面光滑的沉积薄膜。离子束技术提供了一种多样的刻蚀和沉积的方法，并可在同一设备上实现，因而提高系统的利用率。...
型号： Ionfab 30... 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/12 10:12:56 对比

离子束沉积
激光光刻机
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系统是快速、灵活的高分辨率图形发生器。它们针对工业级灰度光刻进行了优化，设计用于集成电路、MEMS、...
型号： DWL 2000 ... 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/12 10:10:05 对比

灰度光刻
ICPECVD 系统
电感耦合等离子体（ICP）沉积系统，SENTECH SI 500 D 用于介电膜的高密度、低离子能量和低压等离子体沉积，以及用于钝化层的低损伤、低温沉积。S...
型号： SI 500 D 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/12 10:09:28 对比

电感耦合等离子体（ICP）沉积系统
涂胶与显影机
ACS300 Gen2 涂布机和显影剂用于晶圆级封装的生产旋涂/开发集群ACS300 Gen2 是一个模块化集群系统，旨在满足制造商对 200 和 300 毫米...
型号： ACS300 Ge... 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/12 10:01:51 对比

涂胶显影半导体前道工艺

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