3 CVD,3 CVD价格|报价-深圳市矢量科学仪器有限公司

化合物半导体沉积系统
化合物半导体沉积系统AIX G5 WW C“下一代碳化硅电力电子器件的最佳性能，以应对全球大趋势"高吞吐量批量外延与单晶圆控制 - 两全其美。
型号： AIX G5 WW... 所在地：德国参考价：面议更新时间：2024/8/13 11:12:18 对比

半导体沉积
等离子增强化学气相沉积
PlasmaPro 100 Nano用于生长1D / 2D纳米材料和异质结构的CVD / PECVD工具。 PlasmaPro 100 Nano通过在线催化剂活...
型号： PlasmaPro... 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/12 11:13:24 对比

薄膜生长
原子层沉积（ALD）
FlexAL系统可提供远程等离子体原子层沉积（ALD），这为纳米结构和器件的工程设计提供了一系列新的灵活性和可行性。ALD产品家族涵盖的系列设备可以满足学术界、...
型号： FlexAL 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/12 11:04:26 对比

原子层沉积（ALD）
原子层沉积研究设备
TFS 500 是薄膜镀膜应用的理想选择。作为第一个 Beneq 反应器模型，已被证明是用于深入研究原子层沉积研究和稳健批处理的多功能工具。TFS 500 是多...
型号： TFS 500 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/12 11:03:34 对比

原子层沉积
超快速、高精度空间原子层沉积镀膜
超快速、高精度空间原子层沉积镀膜Beneq C2R 是我们集群兼容设备系列的空间 ALD 成员。Beneq C2R 将等离子体增强原子层沉积（PEALD）工...
型号：贝内克 C2R 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/12 11:03:18 对比

空间原子层沉积镀膜
原子层沉积
市场和应用用于电池、太阳能和柔性电子产品的功能性原子层沉积涂层。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多种功能应用的理想选择。各种类型锂离子和固态...
型号：捷尼赛思所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/12 11:03:02 对比

原子层沉积
PEALD 系统
SENTECH True Remote CCP 源可在低温下对敏感基材和层进行均匀和保形涂层。在样品表面提供高通量的反应性气体种类，而没有紫外线辐射或离子轰击。...
型号： SI PEALD 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/12 10:25:24 对比

PEALD
PEARD系统
SENTECH SILAYO是一种用于光学镀膜的等离子体增强原子层沉积（PEALD）系统，扩展了SENTECH PECVD和ALD产品组合。SENTECH SI...
型号： SENTECH S... 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/12 10:25:06 对比

原子层沉积ALD
ICPCVD
PlasmaPro 80是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。它易于放置，便于使用，且能够确保工艺性能。直开式设计可实现...
型号： PlasmaPro... 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/12 10:13:43 对比

ICPCVD 刻蚀沉积
ICPECVD 系统
电感耦合等离子体（ICP）沉积系统，SENTECH SI 500 D 用于介电膜的高密度、低离子能量和低压等离子体沉积，以及用于钝化层的低损伤、低温沉积。S...
型号： SI 500 D 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2024/8/12 10:09:28 对比

电感耦合等离子体（ICP）沉积系统

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