安庆8吨电子芯片超纯水设备 返回列表页

安庆8吨电子芯片超纯水设备是专为满足电子芯片制造过程中对超纯水的需求而设计的水处理系统。以下是该设备的工艺简介：

1. 预处理阶段

• 原水箱：采用不锈钢材质的立式圆桶，用于蓄水、沉淀和排放。配有进水控制阀、自动液位及低液位控制装置，确保原水泵无水时停止运行，水位到达高度后再自动开启原水泵。

• 原水泵：为预处理系统提供稳定的供水流量和压力，并配有管路回流装置，以调节预处理系统的压力及流量。

• 多介质过滤器：利用石英砂等滤料，去除水中的悬浮物、胶体、颗粒杂质等，降低水的浊度，保护后续设备。

• 活性炭过滤器：通过活性炭的吸附作用，去除水中的余氯、有机物、异色异味等，提高水的口感和质量，同时还能延长反渗透膜的使用寿命。

• 阻垢加药装置：向水中添加阻垢剂，防止水中的钙、镁等离子在反渗透膜表面结垢，保证反渗透系统的正常运行。

2. 反渗透阶段

• 精密过滤器：进一步去除水中的微小颗粒和杂质，确保进入反渗透膜的水达到更高的清洁度要求。

• 高压泵：为一级反渗透装置提供足够的压力，使水分子能够克服渗透压，通过反渗透膜。

• 一级反渗透：在压力作用下，水分子透过反渗透膜，而大部分溶解性盐类、胶体、微生物、有机物等被截留，从而得到初级纯化水。一级反渗透产水电导率可达到10μS/cm以下。

• 一级产水箱：用于储存一级反渗透产生的纯化水，为后续的二级反渗透提供水源。

3. 深度处理阶段

• 紫外线杀菌器：利用紫外线的杀菌作用，杀灭水中的细菌、病毒等微生物，确保超纯水在储存和使用过程中不受微生物污染。

• EDI系统（连续电去离子装置）：通过离子交换树脂和电场的作用，去除水中的离子，使纯化水的电阻率达到18兆欧以上，满足对水质要求高的生产工艺需求。

• 抛光混床：作为最后的精处理工序，进一步去除水中的微量离子和有机物，提高纯化水的质量。

• 用水点：将经过上述处理后的纯化水输送到各个用水点，供工业生产使用。

综上所述，安庆8吨电子芯片超纯水设备通过一系列精心设计的处理流程，从预处理到深度净化，最终生产出高纯度的超纯水，满足电子芯片制造过程中对水质的高要求。