真空等离子表面处理系统

真空等离子表面处理系统优点：

1.环保技术：等离子体作用过程是气- 固相干式反应,不消耗水资源、无需添加化学药剂,对环境无污染。

2.广适性：不分处理对象的基材类型,均可进行处理,如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料都能很好地处理。

3.温度低：接近常温，特别适于高分子材料，比电晕和火焰方法有较长保存时间和较高表面张力。

4.功能强：仅涉及高分子材料浅表面（10 -1000 埃），可在保持材料自身特性的同时，赋予其一种或多种新的功能；

5.低成本：装置简单，易操作维修，可连续运行，往往几瓶气体就可以代替数千公斤清洗液,因此清洗成本会大大低于湿法清洗。

6. 全过程可控工艺：所有参数可由电脑设置和数据记录，进行工艺质量控制。

7. 处理物几何形状无限制：大或小，简单或复杂，部件或纺织品，均可处理。

【技术参数】

1、设备外形尺寸: 450mm*400mm*260mm

2、真空仓体尺寸: Φ151×285(L)mm （5L）

3、仓体结构: 不锈钢腔体，内置容性耦合电极，无污染，内置石英托盘。

4、等离子发生器: 频率40KHZ，功率0-300W 调节，全电路保护，连续长时间工作（风冷）。

5、控制系统:PLC 触摸屏全自动控制，采用欧姆龙、施耐德等进口品牌电器元件,有手动、自动两种控制模式，真彩台达触摸屏，西门子可编程控制器（PLC），美国产真空压力传感系统，可在线设定、修改、监控真空压力、处理时间、等离子功率等工艺参数，并具有故障报警、工艺存储等多种功能。在自动模式下设置各项工艺参数，即可一键启动，连续重复运行。手动模式用于实验工艺以及设备维护维修。

【工艺流程】

1、处理工艺流程

装入工件→抽真空→冲入反应气体→等离子放电处理→回冲气体→取出工件

2、工艺控制：

2.1 处理时间控制： 1 秒～120 分钟连续可调。

2.2 等离子放电压力：绝对压力为98Kpa～真空泵最高能力（相对压力为30～80Pa）

2.3 功率设定范围：0～300W 连续可调

2.4 流量设定范围： 气体1（0～60ml/min） 气体2（0～160ml/min）

3、PLC 软件功能（操控界面）

3.1 主画面：实时监视并显示运行状态及数据，等离子电源功率、气体流量、阀门开

关、真空压力、运行时间等。

3.2 参数设置：可设定、修改工艺参数及步骤

3.3 工作状态：可在线查看真空压力、等离子功率等数据及状态

3.4 故障报警：多种故障检测、报警及互锁保护

【场地要求】

电源：两相三线，独立接地，接地电阻≤2Ω。应使用截面积3mm2 以上的接地线将设备接至PE。

真空泵排放气管：软管，管径（内径）建议将排气管接至室外

场地温度：≤40℃

相对湿度：RH（35-85）%