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| 应用领域 | 综合 |
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产品简介
详细介绍
BMF nanoArch® S140 系统简介
nanoArch S140是可以实现实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前有前景的微纳加工技术之一。
科研级3D打印系统
nanoArch® S140是工业级3D打印系统，拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚，可以兼顾微尺度和宏观样件的打印，从而实现超高精度大幅面的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
BMF nanoArch® S140 系统性能：
| 光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏树脂 | 光学精度 10μm |
| XY打印精度 10~40μm | 打印层厚 10~40μm | 打印样品尺寸 Mode Single：19.2mm*10.8mm*45mm |
| 样品高度 10mm in typical； | 打印速度 288~1152mm3/h | 打印文件格式 STL |
| 设备功率 3000W | 系统外形尺寸 主机：650(L)*650(W)*750mm(H) | 重量 300kg |
打印材料
通用型
丙烯酸类光敏树脂，比如HDDA，PEGDA等。
个性化
405nm固化波段的光敏树脂材料 ，支持透明树脂，柔性树脂，硬性树脂，纳米颗粒掺杂复合树脂，4D打印树脂，生物医疗树脂等，需适配不同的工艺和模型，不保证打印性能
系统特点
高精度
（XY打印精度高达10μm）
（XY打印精度高达10μm）
低层厚
（10μm~40μm的打印层厚）
（10μm~40μm的打印层厚）
微尺度大幅面的打印能力
光学监控系统，自动对焦功能
优良的光源稳定性
配备完善的样品后处理组件 包括抽真空及紫外后固化
应用案例
