纳米压印技术咨询 参考价：面议
天仁微纳技术团队具有20多年的纳米压印及配套的半导体加工经验，可以为客户提供各种纳米压印技术咨询服务。
纳米压印工艺开发 参考价：面议
天仁微纳可以根据客户的产品需求，提供纳米压印工艺开发服务。配套天仁微纳的设备及材料，为客户提供全套解决方案。
GL-ASL纳米压印材料/纳米压印抗粘处理 参考价：面议
天仁微纳自主研发、生产及销售GL-ASL纳米压印抗粘处理，用来减少子模具复制材料和原始模具的粘度，有利于脱模，增加对原始模具的保护。
纳米压印胶 参考价：面议
针对纳米压印胶需求，天仁微纳可以为客户推荐、对接国内外多种压印胶厂商，并提供工艺咨询服务。
标准压印模具 参考价：面议
标准压印模具天仁微纳还提供一些带有纳米孔、纳米柱、纳米线条等标准结构的标准模具。如有需求，请联系我们咨询。
UniCoater桌面型旋涂匀胶设备 参考价：面议
UniCoater桌面型旋涂匀胶设备是一种桌面型旋涂匀胶设备。可旋涂8英寸或者6英寸方片。
GL Plasma等离子体清洗设备 参考价：面议
GL Plasma等离子体清洗设备数适用于大300mm直径以下晶圆或者330×400mm基材（软工作模具基材）。
150mm&300mm 全自动纳米压印光刻预处理设备 参考价：面议
GL150 PreNIL & GL300 PreNIL，150mm&300mm 全自动纳米压印光刻预处理设备，Cassette to cassette机械手自动...
GL SR300 300mm步进式纳米压印光刻/拼版设备 参考价：面议
GL SR300 300mm步进式纳米压印光刻/拼版设备是一种步进式紫外纳米压印设备，可以在300mm尺寸基底上加工精度优于20纳米的三维结构，还可以用于将小面...
GL4 R D研发型纳米压印光刻设备 参考价：面议
GL4 R D研发型纳米压印光刻设备是一种专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计，功能强大的多功能研发型纳米压印光刻设备。通过简单的夹具更换，可以实现旋涂压印...
GL8 MLA Gen2工艺紫外纳米压印光刻设备 参考价：面议
GL8 MLA Gen2工艺紫外纳米压印光刻设备是一种专门为晶圆级光学加工（WLO-Wafer Level Optics）开发的全幅紫外纳米压印设备，可在200...
GL8 CLIV Gen2高精度紫外纳米压印光刻设备 参考价：面议
GL8 CLIV Gen2高精度紫外纳米压印光刻设备是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备，标配天仁微纳CLIV（Contact Litho in Vacuu...
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