纳米压印技术咨询 参考价：面议
天仁微纳技术团队具有20多年的纳米压印及配套的半导体加工经验，可以为客户提供各种纳米压印技术咨询服务。
纳米压印工艺开发 参考价：面议
天仁微纳可以根据客户的产品需求，提供纳米压印工艺开发服务。配套天仁微纳的设备及材料，为客户提供全套解决方案。
GL-ASL纳米压印材料/纳米压印抗粘处理 参考价：面议
天仁微纳自主研发、生产及销售GL-ASL纳米压印抗粘处理，用来减少子模具复制材料和原始模具的粘度，有利于脱模，增加对原始模具的保护。
Primer纳米压印增粘剂 参考价：面议
天仁微纳自主研发、生产及销售Primer纳米压印增粘剂，用来增加纳米压印胶和基底的粘度，提高产品质量和良率。
纳米压印胶 参考价：面议
针对纳米压印胶需求，天仁微纳可以为客户推荐、对接国内外多种压印胶厂商，并提供工艺咨询服务。
工作模具/子模具复制材料 参考价：面议
工作模具/子模具复制材料优点：结构保型性好，精度远远优于传统PDMS材料，可达50纳米以下精度，使用寿命长。
拼版复制模具 参考价：面议
拼版复制模具通过拼版技术，将原始模具上的结构多次复制到玻璃复制模具上，进行纳米压印量产。可以节省原始模具的加工面积，降低原始模具的加工成本和周期。
复制模具 参考价：面议
复制模具通过特殊工艺，将原始模具上的结构1:1复制到玻璃复制的模具上，进行纳米压印量产。可增加原始模具使用寿命，降低制作原始模具成本。
标准压印模具 参考价：面议
标准压印模具天仁微纳还提供一些带有纳米孔、纳米柱、纳米线条等标准结构的标准模具。如有需求，请联系我们咨询。
定制纳米压印模具 参考价：面议
客户定制纳米压印模具可根据客户需求，定制纳米压印原始模具。根据结构尺寸和形貌，纳米压印原始模具的加工方法有电子束直写、激光直写、光刻、刻蚀、电镀、机加工等。
UniHotplate桌面型热板 参考价：面议
UniHotplate桌面型热板是一种桌面型热板，可烘烤8英寸或者6寸方片。温度设定20℃~250℃。
UniCoater桌面型旋涂匀胶设备 参考价：面议
UniCoater桌面型旋涂匀胶设备是一种桌面型旋涂匀胶设备。可旋涂8英寸或者6英寸方片。
GL MegaClean单片式兆声波清洗设备 参考价：面议
GL MegaClean单片式兆声波清洗设备基材尺寸大300mm直径以下圆片清洗；单片扫描式毛刷清洗、二流体清洗、兆声波清洗。
GL Plasma等离子体清洗设备 参考价：面议
GL Plasma等离子体清洗设备数适用于大300mm直径以下晶圆或者330×400mm基材（软工作模具基材）。
150mm&300mm 全自动纳米压印光刻预处理设备 参考价：面议
GL150 PreNIL & GL300 PreNIL，150mm&300mm 全自动纳米压印光刻预处理设备，Cassette to cassette机械手自动...
GL Spin+HP旋涂匀胶设备+热板 参考价：面议
GL Spin+HP旋涂匀胶设备+热板适用于大300mm直径以下圆片或者9英寸方片旋涂匀胶与烘烤工艺。
GL SR300 300mm步进式纳米压印光刻/拼版设备 参考价：面议
GL SR300 300mm步进式纳米压印光刻/拼版设备是一种步进式紫外纳米压印设备，可以在300mm尺寸基底上加工精度优于20纳米的三维结构，还可以用于将小面...
GL4 R D研发型纳米压印光刻设备 参考价：面议
GL4 R D研发型纳米压印光刻设备是一种专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计，功能强大的多功能研发型纳米压印光刻设备。通过简单的夹具更换，可以实现旋涂压印...
GL8 MLA Gen2工艺紫外纳米压印光刻设备 参考价：面议
GL8 MLA Gen2工艺紫外纳米压印光刻设备是一种专门为晶圆级光学加工（WLO-Wafer Level Optics）开发的全幅紫外纳米压印设备，可在200...
GL8 CLIV Gen2高精度紫外纳米压印光刻设备 参考价：面议
GL8 CLIV Gen2高精度紫外纳米压印光刻设备是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备，标配天仁微纳CLIV（Contact Litho in Vacuu...
GL300 Cluster纳米压印光刻生产线 参考价：面议
GL300 Cluster全自动纳米压印光刻生产线是模块化的全自动纳米压印生产线，集成了从纳米压印基底清洗、涂胶、烘烤、冷却直至纳米压印全套工艺步骤。标配天仁微...
UniPrinter研发型Desktop纳米压印光刻设备 参考价：面议
UniPrinter研发型Desktop纳米压印光刻设备是一种专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计，操作简单、功能强大的台面型纳米压印光刻设备。可实现4英寸...
GL150/300 CLIV紫外纳米压印光刻设备 参考价：面议
GL150/300 CLIV紫外纳米压印光刻设备产能可大于40片每小时，适合DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、...
GL300 MLA全自动紫外纳米压印光刻设备 参考价：面议
GL300 MLA全自动紫外纳米压印光刻设备适用于DOE、匀光片（Diffuser）、微透镜阵列、菲涅尔透镜等产品的研发和量产。
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