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| 应用领域 | 医疗卫生,环保,生物产业,农林牧渔 |
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产品简介
详细介绍
纳米压印Nanonex高分辨率光刻/对准器 Lumina系列为电子，光电，MEMS和许多其他应用中的高分辨率，对准，接触和接近光刻提供了高质量，可靠且经济高效的解决方案。 它具有易于使用的界面，高精度的载物台，高性能的光学元件和较小的占地面积。
Nanonex Lumina-200纳米压印主要特点
高分辨率光刻
高精度对准平台
*的对准光学
间隙控制
用户友好的PC控制
占地面积小
具有成本效益的设计
背面对齐可选
应用领域：半导体器件 *微机电系统 *光电子学 *高级包装 *电力设备
纳米压印Nanonex高分辨率光刻/对准器技术参数
手册X-Y-?
带称重传感器的电动Z
移动范围： X和Y：1英寸
?：10度
Z：0.25英寸
掩膜加载能力
5”口罩标准
其他尺寸可选
基板装载能力
4”标准
其他尺寸可选
对准 模式：接近、柔和、硬
对准光学
分割栏 5倍物镜，1到7倍变焦
2个独立的手动X，Y，Z显微镜移动 精细粗调
通过CCD相机成像
曝光系统
紫外线：汞灯，带有可选的G线或I线过滤器
紫外线灯功率：500瓦
紫外线均匀照射
电动紫外线灯移动
具有Microsoft Windows的基于PC的控制计算机
用户友好的控制软件 PC控制的CCD视频
紫外线灯曝光由电脑控制
占地面积：31英寸乘44英寸（780毫米乘1110毫米）
