| 注册| 产品展厅| 收藏该商铺

行业产品

当前位置:
南京淳寅嘉生物科技有限公司>>合肥科晶>>CVD/PECVD/ALD系统>> OTF-1200X-S-HPCVD坩埚(样品台)可移动型1200°C管

坩埚(样品台)可移动型1200°C管

返回列表页
  • 坩埚(样品台)可移动型1200°C管
收藏
举报
参考价 面议
具体成交价以合同协议为准
  • 型号 OTF-1200X-S-HPCVD
  • 品牌 合肥科晶
  • 厂商性质 经销商
  • 所在地 南京市
在线询价 收藏产品

更新时间:2021-03-09 17:40:11浏览次数:280

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!

同类优质产品

更多产品

产品简介

产地类别 国产 应用领域 医疗卫生,化工,生物产业
OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩埚可炉管内移动(靠步进电机控制)的小型开启式管式炉。炉管直径为50mm,设备工作温度为1200℃。设备特点∶坩埚通过一步进电机控制炉管,按照设定程序移动,同时坩埚后端安装一热电偶(随坩埚仪器移动),可实时监测样品的温度,意味着可通过移动坩埚的位置,在炉体中准确找到实验所需要的温度,使得实验准确度更高,重复性更强。此款设备可用于多种实验

详细介绍

高温炉部分

炉体设计为开启式,以便于更换炉管工作电源∶ 208.240 VAC,50/60Hz z功率为∶2KW

工作温度∶1200℃(<1hr)连续工作温度∶ 1100℃加热区长度∶ 200m

恒温区长度∶60mm(-1℃@1000℃)注∶由于测量里手段及外部环境的影响,测里结果可能会有偏差,此参数仅供参考不作为该设备的技术指标。您购买产品需要准确的恒温区数据,请与我公司销售人员

炉管∶ 高纯石英管,尺寸50mm ODx44mmIDx450mmL)

温度控制系统采用PID30段程序化控温,其控温精度为--1℃控温仪表操作视频设有过热和断偶保护热电偶采用K型热电偶
真空密封

采用KF结构密封法兰,硅胶密封圈密封法兰上安装有一机械压力表

右端法兰与一个真空不锈钢波纹管连接(不锈钢波纹管伸缩幅度为150mm)真空度∶ 10-2Torr(用机械泵抽) 10-5Tor(用分子泵抽)

坩埚移动机构&PLC控制

一个直径为14"的欧米伽铠装热电偶(K型),通过法兰伸入到炉管中,并可随坩埚移动,可实时监测样品的实际温度。

通过步进电机移动炉管内的坩埚(样品台),行程为100mm,移动精度为1mm

通过触摸屏设定坩埚一定的距离和目标位置,坩埚移动速度为180mm min(更准的移动速度,可与本公司定制,需额外收费)

可观察下图,了解坩埚与热电偶的安装方法

加热速率和冷却速率

可通过移动样品到已预加热的炉体中来得到加热速率,也可将样品迅速移除高温的炉体,来得到降温速率的

降温速率

加热速率

10℃C/sec (950℃C-900℃); 10℃℃/sec (150℃.250℃);

[7℃/sec (900℃-850℃); 7℃/sec (250℃.350℃);

l℃/sec (850℃-750℃);℃/sec (350℃- 500℃);

2℃Csec(750℃-600℃C; B℃C/sec(6500℃.5s0℃);

1.5℃sec(600℃-500℃; 2℃/sec(550℃-650℃);

1℃C/e(500℃-400℃; 1℃C/sec(650℃-800℃);

0.5℃Csec400℃.300℃C);

0.5℃/sec(800℃-1000℃;

可选配件

可选购手动挡板阀(图1)防腐型数显真空计(图4)

快速连接法兰,以方便于放置样品(图2)

多路质量流量计控制的混气系统,用于CVD和DVD实验(图5)

尺寸 
质保 
一年质保期,终生维护 (不含加热元件、炉管和密封圈)
质量认证

 CE认证

所有电器元件(>24V)都通过UL /MET /CSA认证

注意事项

若客户出认证费用,本公司保证单台设备通过德国TUV认证或CAS认证

炉管内气压不可高于0.02MPa

由于气瓶内部气压较高,所以向炉管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,建议在本公司选购减压阀,本公司减压阀量程为0.01MP-0.1MPa,使用时会更加安全

当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相,保持在常压状态

进入炉管的气体流量需小于200SCCM,以避免冷的大气流对加热石英管的冲击石英管的长时间使用温度<1100℃

对于样品加热的实验,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若气压表示数大于0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉管破裂,法兰飞出等)

应用

此款设备可用于多种实验,以下列出了几种实验方法

RTE(快速热蒸发)∶蒸发料放在坩埚中,放入到炉体中心,基片放在样品台上,样品台与热电偶相连接,然后将样品台移动到理想的位置(此位置温度是实验所需要的温度)

HPCVD(混台物理化学沉积);与RTE相似,但需配混气系统,对反应气体混台并控制流量,同时也需设定蒸发料的位置(确定蒸发料的蒸发温度)

水平布里奇曼(Bridgman)法来长晶体∶将样品和籽晶放入到坩埚中,并将坩埚放入到炉体中心位置,然后设定坩埚移动速度,慢慢移动坩埚

 

 

一年质保期,终生维护 (不含加热元件、炉管和密封圈)

收藏该商铺

登录 后再收藏

提示

您的留言已提交成功!我们将在第一时间回复您~
二维码 意见反馈
在线留言