本次大会，布鲁克光谱将为您介绍材料质量控制解决方案：

• 芯片分装污染、异物、失效分析

• 显示器件污染、异物分析

• 电路板异物、失效分析

此外，布鲁克光谱提供半导体行业多应用方向的解决方案：

• 常温、低温傅立叶变换光致发光系统，红外低维材料表征：量子点、量子阱、超晶格；

• 声子光谱、半导体材料带隙，低维异质结构厚度以及电子特性研究；

• 外延层厚度分析：同质外延，异质外延，单层，多层；

• 红外光电探测器器件光谱响应表征：光电流谱；

• 红外发光器件、激光器等电致发光器件中心波长、线宽、带宽表征：ICL，QCL，VCSEL；

• 工业高纯晶体硅质量控制：间隙氧，代位碳，III-V族杂质元素分析；

• 光伏硅晶体质量控制：间隙氧，代位碳，施主，受主元素含量；

• 切割前硅晶棒、硅锭中氧含量轴向分布分析；

• 高纯锗、化合物半导体中杂质元素分析。

仪器展示

LUMOS II 是一款独立的傅立叶变换红外显微镜，在失效分析、材料研究和颗粒分析方面非常出色。它采用FPA技术，结构紧凑、精确，具有超快的化学成像功能。生产电子产品时要用到各种类型的有机/无机材料。FTIR 光谱是一种通用技术，可为大多数样品提供有价值的化学信息。因此，FTIR 显微技术对故障和根本原因分析有很大帮助。

INVENIO非常适用于需要高灵敏度、光谱或时间分辨率、稳定性、灵活性和可升级性的情景，从而改善您在工业或研究应用领域的日常分析体验。INVENIO可应用在硅晶圆中氧和碳含量测定；亚微米量级至毫米量级外延层层厚无损光学测试、分析；近红外光谱范围的光致发光测量等。