| 产地类别 |
国产 |
应用领域 |
化工,生物产业,能源,电气,综合 |
全封闭显影机主要用于半导体制造中晶片的显影工艺，性价比高，稳定性好，重复性好，对显影作业有非常理想的效果。设备配有一路显影和一路水、一路气吹功能，并且喷嘴位置可程控移动，实现自动显影和清洗作业。
全封闭显影机优势
·全封闭式显影，避免雾气扩散到外部，污染环境。
·外壳喷塑，耐腐蚀，易清洗。
·内腔镀特氟龙，光滑，耐腐蚀，易清洗。
·内置真空过滤器，防止液体吸入真空泵。
·真空压力可调，压力值实时显示。
·液体流量可调，回吸可调。
全封闭显影机参数
支持wafer尺寸：碎片至200mm(8"圆晶)
·转速分辨率：±1 RPM
·旋涂速度：20-3000rpm(空载)
·旋涂加速度：10-10,000rpm/sec(空载)
·工艺时间设定： 0-3,000sec/step，时间设置精度： 0.1sec
·该机型适用于标准3路显影机(1路洗衣液，1路纯水，1路氮气)
·单步工艺及多步工艺可选，内置100组可编辑程序
·可根据客户需求定制四管路显影机或更大基片的显影机。
设备配有一路显影和一路水、一路气吹功能，并且喷嘴位置可程控移动，实现自动显影和清洗作业。
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