详细摘要：北京赛德凯斯SC-H-I-II-III烘胶机/烤胶机
英文叫hot plate，又称烘胶机、热板。
SC系列烤胶机（热板）适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。热板温度稳定度高，重复性好。可在工矿企业、科

详细摘要：全自动滴胶机适用于支持高科技产业的自动化生产线所需要的点胶需求。毫无疑问，点胶精度来自于高速性、稳定性、操作性、及耐久性的高度统一。

详细摘要：北京赛德凯斯 KW-4A数字型匀胶机/旋涂仪/甩胶机旋转涂胶机
KW系列匀胶机适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆。该产品具有转速稳定和启动迅速等优点，并能保证半导体材料中涂胶厚度的一致性和均匀性。通常配无油真

详细摘要：我研究室生产的KW型匀胶机适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆。该产品具有转速稳定和启动迅速等优点，并能保证半导体材料中涂胶厚度的一致性和均匀性。通常配真空泵一起使用。目前的型号有KW-4A型、KW-5型和KW-4T型。

详细摘要：Kw-4a匀胶机具有转速稳定和启动迅速等优点，并能保证半导体材料中涂胶厚度的一致性和均匀性。通常配真空泵一起使用。

详细摘要：中国科学院微电子研究所生产的KW-4A/KW-5型匀胶机适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆。该产品具有转速稳定和启动迅速等优点，并能保证半导体材料中涂胶厚度的一致性和均匀性。通常配真空泵一起使用。目前的型号有KW-4A

详细摘要：我研究室生产的KW型匀胶机适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆。该产品具有转速稳定和启动迅速等优点，并能保证半导体材料中涂胶厚度的一致性和均匀性。通常配真空泵一起使用。目前的型号有KW-4A型、KW-5型和KW-4T型。

详细摘要：我研究室生产的KW型匀胶机适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆。该产品具有转速稳定和启动迅速等优点，并能保证半导体材料中涂胶厚度的一致性和均匀性。通常配真空泵一起使用。目前的型号有KW-4A型和KW-5型。
产品型号：KW-4A      所在地：北京市      更新时间：2023-11-12 在线留言