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当前位置:江苏九铭特钢有限公司>>>> 钽靶材钽靶

钽靶

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具体成交价以合同协议为准

产品型号钽靶材

品       牌其他品牌

厂商性质生产商

所  在  地无锡市

更新时间:2023-08-28 16:04:52浏览次数:447次

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应用领域 化工,石油,地矿,能源,建材
钽靶 靶材
用途:主要应用于半导体镀膜和光学镀膜
牌号:RO5200,RO5400
纯度:99.95% ,99.99%
规格:方靶材,厚度x宽度x长度=5~25x≤800x≤2000(mm)
圆靶材,厚度x直径=5~25x≤Φ800(mm)

钽靶

 

产品名称:靶材
牌号:Ta1.Ta2.TaW2.5.TaW10.
标准:GB/3629-2006
纯度:≥99.95%
状态:退火态(M)或硬态(Y)
尺寸:原片,管状,颗粒,平面

外径(mm)

厚度(mm)

表面粗糙度

平面度

50~400

3~50

32Rms

≤0.15%

注:特殊产品需供需双方协商解决。 

 

成分要求:

牌号

元素含量   (质量分数%)

C

N

O

H

Fe

Si

Ni

Ti

Mo

W

Nb

Ta

Ta1

0.01

0.005

0.015

0.0015

0.005

0.005

0.002

0.002

0.01

0.01

0.05

余量

Ta2

0.02

0.025

0.03

0.005

0.03

0.02

0.005

0.005

0.03

0.04

0.1

余量

TaNb3

0.02

0.025

0.03

0.005

0.03

0.03

0.005

0.005

0.03

0.04

1.5~3.5

余量

TaNb20

0.02

0.025

0.03

0.005

0.03

0.03

0.005

0.005

0.02

0.04

17~23

余量

TaNb40

0.01

0.01

0.02

0.0015

0.01

0.005

0.01

0.01

0.02

0.05

35~42

余量

TaW2.5

0.01

0.01

0.015

0.0015

0.01

0.005

0.01

0.01

0.02

2.0~3.5

0.5

余量

TaW7.5

0.01

0.01

0.015

0.0015

0.01

0.005

0.01

0.01

0.02

6.5~8.5

0.5

余量

TaW10

0.01

0.01

0.015

0.0015

0.01

0.005

0.01

0.01

0.02

9.0~11

0.1

余量

钽靶应用:钽溅射靶材是通过压力加工获得的钽片材,化学纯度高,晶粒尺寸小,再结晶组织和三个轴向的一致性好,

主要应用于光导纤维,半导体晶片和集成电路的溅射沉积镀膜,材可用于阴极溅射涂层,高真空吸气活性材料等.

是重要的薄膜技术用材料。

 本公司是专业从事钛及钛合金、难熔、稀有等有色金属材料加工、生产、开发、销售为一体的综合性企业.企业固定资产800多万元,年产量120吨,可实现年产值2000万元。拥有3吨的真空熔炉1套、2500吨液压机1台、精锻机2台、热、冷轧机各1台、数控车床数台、无心磨、机械加工中心1套、另有各项检测仪器数台,拥有专业学历博士生等人才5名、专业技术人员16名。本公司生产高品质钽,铌,钨,钼,钛及钛合金产品,主要应用于医疗器械、人体植入物,航天航空,,船舶,石油,机械制造,电子化工,仪器仪表,真空镀膜等领域。公司还致力于锆-702、等特殊材料加工材的研究与开发,采用先进的加工技术为各行业提供各种优质的有色金属加工材系列产品.公司产品执行GB/T、GJB、AMS、ASTM、ISO等标准。
“建设好的企业团队,持续不断的改进管理及制造方式,让每一位客户从每一件产品中获得大收益” 

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