Pluto30是专为研发而设计的全功能等离子体系统，13.56MHz射频发生器和自动匹配网络电源在整个过程区域产生均匀的等离子体。Pluto30的真空腔可支持多达7个可调节样品架，以容纳各种形状尺寸的样品。Pluto30具有多种电极设置，可配置成RIE和PECVD模式，从而扩大了该系统的应用范围，提供给用户良好的灵活性。

复旦大学高分子系老师希望用该设备进行等离子体化学反应的实验，即利用设备产生的等离子体在真空泵和气体阀门关闭的情况下与真空腔内的物质进行化学反应，然后获取化学反应后产生的新物质。此项实验，对等离子体设备要求有精准的控制，对真空腔的保压能力有很高的要求。客户经过一番调研后，最终选择了我司Pluto系列的Pluto30等离子表面处理系统。

应用领域：

表面活化

提高表面能量以提高材料粘合性：预压模粘合；预焊线粘合

增强表面胶体流动性：预成型；预倒装芯片下溢

表面粗糙度和蚀刻

降低表面应力，改善表面粘结性

灰化和表面清洁

Plasma等离子蚀刻（配备RIE配置)

电介质/III-IV材料

纳米涂层（配备液体前体输送装置）

耐水纳米涂层：印刷电路板表面处理

防腐纳米涂层：医疗器械，医疗植入物