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CCP等离子刻蚀机 参考价：88000
CCP等离子刻蚀机(Plasma Etcher)是一种常用于微纳米加工领域的设备，用于对半导体器件、光学元件、生物芯片等材料进行精细加工和图案定义。其原理基于等...
科研型等离子体干法刻蚀（ICP/CCP）系统 参考价：499999
PLUTO-E100型科研型等离子体干法刻蚀（ICP/CCP）系统是一款低成本，适合于科研机构实验室的桌面型科研设备，整套系统的目的是在4寸以及以下的样品上进行...
国产等离子刻蚀机 参考价：面议
PLUTO-MH国产等离子刻蚀机是针对于高校，科学研究所和企业实验室，或者小批量生产的创新性企业而研发的创新型实验平台。针对用户不同的需求，我们提供不同功能附件...
ICP等离子刻蚀机 参考价：88000
ICP等离子刻蚀机WINETCH是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比ICP等离子体系统。作为一个多功能系统，它通过优化的系统设计与灵活的配置方案，获得...
国产等离子刻蚀机设备 参考价：面议
PLUTO-MH国产等离子刻蚀机设备是一种用于微纳米加工的关键设备，主要用于半导体、光电子、纳米材料等领域的微细加工和表面处理。等离子刻蚀技术是半导体制造中的关...
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