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| 应用领域 | 化工,电子/电池 |
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产品简介
详细介绍
| 产品名称 | 数码控制超声波清洗机 |
| 包 装 | 纸箱 |
| 内槽尺寸 | 500×300×150mm |
| 外形尺寸 | 530×330×280 mm |
| 功率 | 480W |
| 工作频率 | 40,000Hz |
| 容量 | 22L |
| 定时 | 1-30min |
| 加热 | 20-80℃ |
| 排水 | 有 |
| 净重 | 12.5kg |
| 毛重 | 13kg |
超声波ROHS2.0前处理设备
产品特点
1.使用普通自来水、酒精或溶剂作为清洗液。
2.大功率换能器清洗*，可用肉眼观察到。
3.清洗后物体闪亮发光。
4.全不锈钢外壳、内胆与盖子。更显高档，美观大方
5.全不锈钢SUS304清洗篮（可选）。
6.清洗槽采用优质不锈钢一次冲压成形，无焊接处，防水性能大大改进，产品更加安全持久。
7.多位时间段控制，人性化控制。
超声波ROHS2.0前处理设备
应用范围
物件的清洗、脱气、消毒、乳化、均匀、置换、提取等。
波数 化合物或结构 来源
668 CO2 大气中CO2 吸收，正或负
697 聚苯乙烯 磨损的聚苯乙烯瓶子或其他机械处理样品过程中
719 聚乙烯 实验室中常使用聚乙烯产品，有时候作为污染物出现
730 聚乙烯 同上
787 CCl4 使用CCl4后没有处理干净
794 CCl4 CCl4气体，同上
823 KNO3 无机硝酸盐与溴化钾反应物
837 NaNO3 氧化氮与窗片上的水汽生成，光源点燃有时候出现
980 K2SO4 无机硫酸盐与溴化钾离子交换的反应物
1110-1053 Si-O 使用玻璃研钵，由玻璃粉末引起的谱带，宽峰
1110 Me-O 研钵或其它物品的灰尘造成的污染，宽
1265 Si-CH3 使用硅树脂有此污染
1365 NaNO3 同837
1380，1450
2800～2900 (CH2)n 烃类物质
1378 NO3- 溴化钾的杂质，与CH3位置相近
1428 CO32- 溴化钾的碳酸盐，及其它杂质
1613-1515 ﹥COO- 碱金属卤代盐，溴化钾与羧酸反应生成的羧酸阴离子引起，压片时能产生