PECVD化学气相沉积多通道质量流量控制系统一款多路质量流量计控制系统，其质量流量计和不锈钢混气罐都安装在一个移动柜里，移动柜Z大可以承重1000Lbs，所以在与本公司大多数管式炉配套使用时，可将设备置于移动柜上以节约空间。
PECVD化学气相沉积设备质量流量控制系统一款多路质量流量计控制系统，其质量流量计和不锈钢混气罐都安装在一个移动柜里，移动柜Z大可以承重1000Lbs，所以在与本公司大多数管式炉配套使用时，可将设备置于移动柜上以节约空间。
工作温度：5~45?C
zui大压力:3x106 Pa
精度: ±1.5% FS
线性:±(0.5-1.5)%F.S
重复精度: ±0.2%F.S.
流量范围:
一路:1~199 SCCM
二路:1~499 SCCM
PECVD注意：其他流量范围的可定制，需额外费用
化学气相沉积设备CVD1200C-II-SL200D50-5Z双温区滑轨式CVD系统由双温区滑轨炉、质子流量控制系统、真空系统三部分组成。双温区滑轨炉可移动并可实现快速升降温；PLC控制5路质子流量器，能够精确控制系统的供气；真空泵可实现对管式炉快速抽真空。CVD(化学气象沉积系统)常用于表面材料生长、沉积，是一款实验室常用设备技术参数
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