技术指标及设备参数：

光源：  405nm（其他波段可定制）

最小打印层高：        10μm

沉积平台温控范围：       RT-50℃（其他温度可定制）

墨水料槽温控范围：       RT-50℃（其他温度可定制）

打印样品尺寸：        48mm(L)×27mm(W)×50mm(H)

墨水料槽容量：        50μl-10ml（其他体积可定制）

洁净无菌系统：        正压过滤、紫外灭菌

操作系统： 脱机打印、桌面打印

可打印材料：     柔性材料：GelMA、PEGDA水凝胶等；刚性材料：光敏树脂等

利用数字光处理技术（DLP）的光学3D打印方法受到了广泛的关注。其打印过程本质上是一种光化学材料合成过程，包括以动态光源为能量输入、以机械打印平台为反应容器和以光固化前驱体为反应混合物。与传统挤出式3D打印技术不同，光学3D打印基于液态前体中的光化学合成反应，具有打印速度快、精度高、打印条件温和等优势。