目录:郑州成越科学仪器有限公司>>磁控溅射镀膜仪>> CY-MSZ300-I-DC-Q桌面型偏置靶单靶磁控镀膜仪
本设备为偏置靶型单靶磁控镀膜仪，磁控靶偏置于腔体一侧，溅射范围可覆盖样品台一半，通过样品台旋转可以实现更大样品的均匀镀膜。理论*大支持样品直径为180mm。设备外形为桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电源，可用于金属及其他导电材料的溅射。设备真空系统采用涡轮分子泵组，抽气速度快，极限真空度高，真空性能优异。本设备结构紧凑功能完善便于使用，非常适合用于各类镀膜试验。
CY-MSZ300G-I-DC-Q 桌面型大腔体偏置靶单靶磁控镀膜仪 样品台 尺寸 φ150mm 转速 转速0-20rpm可调 磁控溅射靶 数量 2" x1 偏置于腔体一侧 真空腔体 腔体尺寸 φ300mm X 200mm 观察窗口 全向可视 腔体材料 高纯石英 开启方式 顶盖拆卸式 下法兰 装有旋转式样品台及进出气口 真空系统 机械泵 双级旋片泵 抽气接口 KF16 分子泵 涡轮分子泵 抽气接口 KF40 真空测量 电阻规+电离规复合真空计 排气接口 KF40 极限真空 1.0E-3Pa 供电电源 AC 220V 50/60Hz 抽气速率 前级泵 1.1L/s 分子泵：60L/S 电源配置 数量 直流电源 x1 *大输出功率 直流电源300W 其他 供电电压 AC220V,50Hz 整机尺寸 500mm X 320mm X6200mm 整机功率 2kW
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