目录:郑州成越科学仪器有限公司>>磁控溅射镀膜仪>> CY-MSH325-III-DCDCRF-SS3靶紧凑型磁控溅射镀膜仪
3靶紧凑型磁控溅射镀膜仪应用领域：
这款紧凑型3靶磁控溅射镀膜机专为在氧化物单晶基板上涂覆氧化物薄膜而设计，通常不需要高真空设置。
3靶紧凑型磁控溅射镀膜仪技术规格：
项目 明细 产品型号 CY-MSH325-III-DCDCRF-SS 供电电压 AC220V，50Hz 整机功率 4KW 系统真空 ≦5×10-4Pa 样品台 外形尺寸 φ140mm 加热温度 ≦500℃ 控温精度 ±1℃ 可调转速 ≦20rpm 磁控靶枪 靶材尺寸 直径Φ50.8mm，厚度≦3mm 冷却模式 循环水冷 水流大小 不小于10L/Min 真空腔体 腔体尺寸 直径φ325mm，高度500mm 腔体材质 SUU304不锈钢 观察窗口 直径φ100mm 开启方式 顶开式 气体控制 1路质量流量计用于控制Ar流量，量程为:200SCCM 真空系统 配分子泵系统1套，气体抽速600L/S 膜厚测量 可选配石英晶体膜厚仪，分辨率0.10 Å 溅射电源 直流电源500W*2,射频电源500W 控制系统 CYKY自研专业级控制系统 设备尺寸 600mm × 650mm × 1280mm 设备重量 350kg
免责声明：
本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等)，仅供参考。可能由于更新不及时，会造成所述内容与实际情况存在一定的差异，请与本公司销售人员联系确认。本站提供的信息不构成任何要约或承诺，本公司会不定期完善和修改网站任何信息，恕不另行通知。
1
化工仪器网