目录:郑州成越科学仪器有限公司>>磁控溅射镀膜仪>> CY-MSH325G-II-DCDC-SS带过渡舱型双靶磁控溅射镀膜仪
本设备为双靶磁控溅射镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备。
项目 明细 产品型号 CY-MSH325G-II-DCDC-SS 供电电压 AC220V,50Hz 整机功率 6.5KW 系统真空 ≦5×10-4Pa 样品台 外形尺寸 φ150mm 加热温度 ≦500℃ 控温精度 ±1℃ 可调转速 ≦20rpm 磁控靶枪 靶材尺寸 直径Φ50.8mm,厚度≦3mm 冷却模式 循环水冷 水流大小 不小于10L/Min 真空腔体 腔体尺寸 直径φ325mm,高度500mm 腔体材质 SUU304不锈钢 观察窗口 直径φ100mm 过渡腔体 150x150x150mm 开启方式 顶开式 气体控制 1路质量流量计用于控制Ar流量,量程为:200SCCM 真空系统 配分子泵系统1套,气体抽速600L/S 膜厚测量 可选配石英晶体膜厚仪,分辨率0.10 Å 溅射电源 配直流电源500W*2 控制系统 CYKY自研专业级控制系统 设备尺寸 1200mm×1200mm×2000mm 设备重量 450kg