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目录:郑州成越科学仪器有限公司>>磁控溅射镀膜仪>> CY-MSH325G-II-DCDC-SS带过渡舱型双靶磁控溅射镀膜仪

带过渡舱型双靶磁控溅射镀膜仪
  • 带过渡舱型双靶磁控溅射镀膜仪
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  • 带过渡舱型双靶磁控溅射镀膜仪
参考价 面议
具体成交价以合同协议为准
参考价 面议
具体成交价以合同协议为准
  • 品牌
  • 型号 CY-MSH325G-II-DCDC-SS
  • 厂商性质 生产商
  • 所在地 郑州市
属性

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更新时间:2025-07-30 23:26:04浏览次数:13评价

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本设备为双靶磁溅射控镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备

本设备为双靶磁控溅射镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备。

双靶磁控溅射镀膜仪配置结构:

设备配有两支磁控靶,两套直流电源,可用于镀多层导电金属膜。同时设备具有主腔室和过渡舱两部分,过渡舱配有磁力推杆,两个舱室之间装有真空闸板阀;用户可以在主腔室进行溅射工作的同时,在过渡舱装填样品,并进行真空预抽,待主腔室溅射完成后即可将样品通过磁力推杆推入主腔室的样品台。这样的设计能够减少主腔室抽放真空的次数,不仅能有效节省时间,更能保证更好的本地真空,有效提高镀膜质量。
双靶磁控溅射镀膜仪

 双靶磁控溅射镀膜仪技术参数:

项目

明细

产品型号

CY-MSH325G-II-DCDC-SS

供电电压

AC220V,50Hz

整机功率

6.5KW

系统真空

5×10-4Pa

样品台

外形尺寸

φ150mm

加热温度

500℃

控温精度

±1℃

可调转速

20rpm

磁控靶枪

靶材尺寸

直径Φ50.8mm,厚度3mm

冷却模式

循环水冷

水流大小

不小于10L/Min

真空腔体

腔体尺寸

直径φ325mm,高度500mm

腔体材质

SUU304不锈钢

观察窗口

直径φ100mm

过渡腔体

150x150x150mm

开启方式

顶开式

气体控制

1路质量流量计用于控制Ar流量,量程为:200SCCM

真空系统

配分子泵系统1套,气体抽速600L/S

膜厚测量

可选配石英晶体膜厚仪,分辨率0.10 Å

溅射电源

配直流电源500W*2

控制系统

CYKY自研专业级控制系统

设备尺寸

1200mm×1200mm×2000mm

设备重量

450kg



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