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目录:郑州成越科学仪器有限公司>>磁控溅射镀膜仪>> CY-MSH325-III-RFRFRF-UPS-SSUPS三靶磁控溅射镀膜机

UPS三靶磁控溅射镀膜机
  • UPS三靶磁控溅射镀膜机
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参考价 面议
具体成交价以合同协议为准
参考价 面议
具体成交价以合同协议为准
  • 品牌
  • 型号 CY-MSH325-III-RFRFRF-UPS-SS
  • 厂商性质 生产商
  • 所在地 郑州市
属性

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更新时间:2025-07-30 21:50:42浏览次数:15评价

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三靶磁控溅射镀膜机是我公司自主研发的高性价比的磁控溅射镀膜设备。 它是标准化,模块化和可定制的。该装置可用于制备单层或多层铁电薄膜,导电膜,合金膜,半导体膜,陶瓷膜,介电膜,光学膜,氧化物膜,硬膜,PTFE膜等。 与同类设备相比,这种三靶磁控溅射镀膜机不仅用途广泛,而且具有体积小,操作简便的优点,是实验室制备材料膜的理想设备。

技术参数

项目

明细

产品型号

CY-MSH325-III-RFRFRF-UPS-SS

供电电压

AC220V50Hz

整机功率

6KW

系统真空

5×10-4Pa

样品台

外形尺寸

φ150mm

加热温度

700℃

控温精度

±1

可调转速

40rpm

磁控靶枪

靶材尺寸

直径Φ50.8mm,厚度3mm

冷却模式

循环水冷

水流大小

不小于10L/Min

真空腔体

腔体尺寸

直径φ325mm,高度385mm

腔体材质

SUU304不锈钢

观察窗口

直径φ100mm

开启方式

顶开式

气体控制

1路质量流量计用于控制Ar流量,量程为:200SCCM

真空系统

配分子泵系统1套,气体抽速600L/S

膜厚测量

可选配石英晶体膜厚仪,分辨率0.10 Å

溅射电源

配射频溅射电源,功率500W*3

控制系统

CYKY自研专业级控制系统

UPS

20KVA 16KW,延迟1小时

16节电池,容量38AH

设备尺寸

1090mm×900mm×1250mm

设备重量

350kg



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