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| 产地类别 | 国产 | 价格区间 | 1-5万 |
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产品简介
详细介绍
上海金刚石抛光剂厂家的产品成分常见的是金刚石微粉，以共同的介质助剂，融物理与化学于一体研发而成。粒度散布均匀，颗粒描摹呈球形八面体，故抛光作用好，不易发生划痕，硬度也*。对软硬资料都有杰出的研磨抛光作用，首要用于机械研磨、抛光硬质合金、合金钢、高碳钢等高硬度资料以及金相和岩相试样的精研等。粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、W28、W40，不同料的研磨抛光可选用不同粒度的上海金刚石抛光剂。W为微米um。
上海金刚石抛光剂厂家常将产品用于半导体硅片抛光、计算机硬盘基片、计算机顶头抛光、精细陶瓷、天然晶体、硬质合金、宝石抛光等。浙江理协的上海金刚石抛光剂采用纳米金刚石抛光石英、光学玻璃等材料，其抛光粗糙度达1nm。纳米金刚石的使用有很多优点，由于超细、超硬，使得光学抛光中的难题迎刃而解。精密抛光是光学抛光中的难题，原工艺是把磨料重复使用，需几十小时，效率很低。如今用了纳米金刚石，抛光速度大大进步。抛光仅需十几小时或几分钟，效率进步数十倍至数百倍。以下就是上海金刚石抛光剂的常见用法。从这些事例中不难看出，纳米金刚石可以顺应与满足超精加工的需求。
上海金刚石抛光剂厂家详细介绍产品的使用注意事项：
[1]将水基纳米金刚石用于硅片抛光。用海藻酸钠、羧甲基纤维素钠、活性剂以及去离子水配制抛光液。对超分散纳米金刚石抛光硅片进行了研讨，并对干法抛光和抛光波湿法抛光进行了比照。干法抛光液使硅片粗糙度Ra从107nrn降到4nm。运用水基纳米上海金刚石抛光剂湿法抛光，抛光效率更高，并且硅片的粗糙度更小，到达4nrn。
[2]一种水基纳米上海金刚石抛光剂经过去离子水中加入纳米金刚石、改性剂、分散剂、超分散剂、pH调理剂、润湿剂、具有化学作用的添加剂经过超声搅拌将纳米金刚石分散成20~100nm的小体，制成抛光液。用于各种光电子晶体、计算机硬盘基片、光学元器件及铜衔接的半导体集成电路等的超精细抛光。用于硅片抛光，外表粗糙度达0.214nm。
[3]一种用于存储器硬盘磁头反面研磨的研磨液制造法。包括十到十三个碳的烷羟矿物油、十五个碳的油性剂、金刚石单晶微粉、抗氧化防腐剂、非离子活性剂、消泡剂和抗静电剂，将该抛光剂用于磁头反面抛光。研磨后外表划痕、外表粗糙度是0.3~0.4nm。
[4]纳米抛光液及其制造法的创造。以轻质白油为介质，参加非离子活性剂、抗静电剂、净洗剂以及pH调理剂制备了波动性较好的纳米上海金刚石抛光剂。除了用于计算机磁头之外，还可以用于光学器件和陶瓷等高精度研磨和抛光之用。
[5]对中等粒度纳米上海金刚石抛光剂用于磁头抛光工艺进行了研讨。纳米金刚石颗粒越细，抛光粗糙度越小、但是二者并不构成复杂的线性关系。抛光液的分散波动性很大水平上影响了外表划痕。抛光液的波动分散是很重要的。制备一种水性纳米上海金刚石抛光剂，经过三乙醇胺调整pH值后，用来抛光氧化铝工件，这种抛光液使得被加工工件外表更容易清洗。
上海金刚石抛光剂厂家分享产品的使用方法：
1、使用上海金刚石抛光剂前将抛光织物用清水湿透，防止摩擦发热;
2、发动抛光盘后将上海金刚石抛光剂轻摇后倒置喷出;
3、喷洒上海金刚石抛光剂时，应以抛光盘中心为圆心沿半径方向喷出，3-5秒即可。新织物喷洒时应相应延长，以使织物有更好的磨抛;
4、抛光过程中不断加适量的清水即可。注意：有单晶的和多晶的。