CMP铜Copper工艺的开发

拥有超过50年经验的实验室团队，与客户合作不断开发新的工艺，以确保可以使用最新和先进的工艺技术来帮助客户。无论是持续进行研发以确保我们掌握新技术和工艺知识，还是继续开发我们现有的产品，我们始终都在不断...

Semicon上海半导体展邀请函

我司将参加2019Semicon上海半导体展，我们诚邀您作为特邀嘉宾莅临参观、洽谈。展品展示：展会现场

新品推介——LP70多工位精密研磨和抛光系统

Logitech将推出全新的LP70多工位精密研磨和抛光系统。该系统自动化程度高，具有创新的特性和功能，是需要高规格表面光洁度和平整度应用的多晶圆加工方面的理想解决方案。LP70精密研磨和抛光系统将成...

EMA新品问世-离子色谱样品瓶

EMA元素分析耗材产品介绍

北京华沛智同科技发展有限公司成立2004年，致力于将国外高品质的元素分析耗材引进到国内，并推荐给国内同位素质谱仪，C、N、O、S、H元素分析仪器使用单位，让中国用户使用到价廉物美，具有的元素分析耗材，...

中山大学CMP Tribo和PM6设备安装调试顺利完成

中山大学电子与信息工程学院光电材料与技术国家重点实验室，为满足专业人才培养需要，2016年底，利用国家专项教学资金购置光电国家重点实验室化学机械平坦化机和研磨抛光机各一套。设备均为目前精密研磨抛光设备...

超过40年历史的LP30 Logitech系统仍在运转

科罗拉多矿业学院一直从事地质方面研究，他们的地质薄片制备一直使用Logitech的LP30机器，此台LP30机器已帮助他们制备地质薄片超过40年。LP30是精密研磨抛光系统LP50的前身，在LP50面...

上海硅酸盐所研制的两项关键材料成功用于 “墨子号”量子卫星

8月16日1时40分，我国在酒泉卫星发射中心用长征二号丁运载火箭成功将世界首颗量子科学实验卫星“墨子号”（简称“量子卫星”）发射升空。此次发射任务的圆满成功，标志着我国空间科学研究又迈出重要一步。中国...

新一代智能型精密研磨抛光系统PM6上市

英国logitech公司成立于1965年，具有*的材料表面精密加工处理领域的*水平。logitech公司一直致力于在半导体材料加工、光电器件制备、光学材料处理、地址薄片制备、材料的测试与测量及工艺探究...

化学机械研磨抛光设备的优势有哪些？

化学机械研磨抛光设备了一场新的抛光技术革命，单纯的化学抛光，抛光速率较快，表面光洁度高，损伤低，性好，但表面平整度和平行度差，抛光后表面一致性差；单纯的机械抛光表面一致性好，表面平整度高，但表面光洁度...

薄片制备系统的用途有哪些

由透射电镜的工作原理可知，供透射电镜分析的样品必须对电子束是透明的，通常样品观察区域的厚度以控制在约100-200nm为宜。薄片制备系统所制得的样品还必须具有代表性以真实反映所分析材料的某些特征，因此...