详细摘要： QuickGlow辉光放电仪是经济实惠、易于使用、放电稳定的一款国产辉光放电仪，其常见的应用之一是用于TEM载网表面的亲水化处理，使得极性悬浮液在载网上更容易扩散，减少颗粒团聚，提高染色剂的附着效果，使样品的对比度更高，图像更清晰，便于分析。

详细摘要： 多参数表面等离子体共振分析仪MP-SPR Navi 200 OTSO：半自动MP-SPR Navi™ 200 OTSO。开放式设计非常适合用于教学目的、气体测量、薄膜表征以及使用辅助设备。

详细摘要： PELCO精密研磨装置适合在金相试样、单晶片、电子材料、玻璃、岩石或其他材料样品上制备平面、平行面等高度抛光的表面。研磨硬质材料时，先用环氧树脂等包埋样品，可以避免圆角或过度抛光，特别适用于手工磨抛半导体、光学元件，以及凹坑前TEM样品的减薄。PELCO研磨装置可用于研磨直径3mm至25mm、厚度不超过13mm的样品。

详细摘要： 广州竞赢离子溅射仪全国诚招代理广州竞赢成立于2007一直以来专业从事代理和销售国内外品牌的各类电镜耗材及电镜附属设备，客户涉及高校、科研院所、企业、政府部门等多个领域。凭借着优异的产品和服务为广州市公安局、广东医附院、复旦大学、华南理工大学、中山大学、电子五所、哈尔滨工业大学、贵州大学等等国内各地域客户建立起良好的供销关系。

详细摘要： ALD R-200原子层沉积系统：高质量ALD薄膜的沉积技术，并在各种各样的衬底上都表现的均匀性，包括挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。

详细摘要： 脉冲激光沉积系统PLD：脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition）是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。

详细摘要： Sanyu 离子溅射仪SC-701MKll是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统，特别适用于电极镀膜，也可用于扫描电镜成像中非导电样品镀膜。

详细摘要： 此款小型离子溅射镀膜仪主要用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜（金膜），仪器操作简单方便，是配合SEM 制样*的仪器。设备配有微量充气阀调节工作真空，在 20Pa 真空保护。同时，配有进气口和微量充气调节装置，以方便空气或氩气等工作气体充入。

详细摘要： PELCO easiGlow辉光放电清洁仪是一套价格合理、结构紧凑、使用方便的系统，用于TEM铜网和支持膜清洗及表面处理。如亲油性的TEM碳支持膜经气体辉光放电处理后，表面带负电而呈亲水性，水溶液因此容易被分散。

详细摘要： NLS-AT 全自动振动切片机是一款全自动振动切片机，其底盘采用全新的设计，引入了减震基座，其机身也由塑料改为不锈钢体，以尽可能的消除由于共振而产生的异常振动。有了这些改进，Neo LinearSlicer 可以切出比以往更薄、更高质量的切片。

详细摘要： PELCO Tripod Polisher 590由IBM East Fishkill实验室的研究人员设计，以准确地制备预先的微米尺度区域的透射电镜和扫描电镜样品。对于TEM样品，该技术已成功地用于将离子研磨时间限制在15分钟以内，并且在某些情况下，消除了离子研磨的需要。

详细摘要： 该涡旋器小巧、经济、实用，适合电镜样品的组织渗透过程。转速缓慢，大约为10转/分钟。含12个孔位，可放置直径大至30mm的瓶子。尺寸： 底座： 10.2 x 15.6cm （4 x 6-1/8“） 涡旋头： （产品编号1058） 15.9cm（直径）x 2.7cm（高），12个孔位 （32mm ø）

详细摘要： 产品编号描述单位8702PELCO®玻璃刀制刀机台8702-3制刀机切轮个8702-4制刀机断裂垫个

详细摘要： JY-S100 PLUS离子溅射仪（喷金仪）是一款桌上型冷态磁控溅射镀膜系统，标配旋转倾斜样品台，特别适用于各种表面形貌的非导电样品在扫描电镜成像中的高质量镀膜，也可满足电极镀膜，半导体等材料镀膜的要求。

详细摘要： Y-S100喷金仪是一款结构紧凑的桌面小型磁控镀膜系统，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。在扫描电子显微镜（SEM）样品制备中，JY-S100喷金仪在不同类型的样品，如生物标本和材料样品制备中发挥着至关重要的作用。

详细摘要： 辉光放电仪用于TEM铜网和支持膜清洗及表面处理，可改善亲水性和疏水性。适用于经常需要清洗铜网和支持膜，或需要大批量清洗的实验室。