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东莞市晟鼎精密仪器有限公司>>半导体微波等离子清洗机>>半导体微波等离子去胶机>> SPE-201P微波等离子去胶机 ICP RPS

微波等离子去胶机 ICP RPS

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  • 微波等离子去胶机  ICP RPS
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参考价 面议
具体成交价以合同协议为准
  • 型号 SPE-201P
  • 品牌 其他品牌
  • 厂商性质 生产商
  • 所在地 东莞市
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更新时间:2024-02-04 13:37:50浏览次数:1534

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产品简介

达因特半导体微波等离子去胶机 ICP RPS是一种低压微波等离子去胶系统,应用于晶圆光刻胶去胶、晶圆表面活化。自由运动的电子产生Plasma进入腔体所在的料盒进行工艺清洗。通过对真空腔体壁上的窗口施加频率为2.45GHz的微波可以产生大量的持续Plasma。腔体适用于不同尺寸的料盒。微波等离子去胶机可以提供快速的无损伤的等离子去胶效果。系统的等离子去胶效果是由被激活的自由基穿过料盒来实现的。

详细介绍

达因特半导体微波等离子去胶机是一种低压微波等离子去胶系统,应用于晶圆光刻胶去胶、晶圆表面活化。自由运动的电子产生Plasma进入腔体所在的料盒进行工艺清洗。通过对真空腔体壁上的窗口施加频率为2.45GHz的微波可以产生大量的持续Plasma。腔体适用于不同尺寸的料盒。微波等离子去胶机可以提供快速的无损伤的等离子去胶效果。系统的等离子去胶效果是由被激活的自由基穿过料盒来实现的。

v 产品放置治具灵活多变,可适应不规则的产品。

v 无电极微波设计,可满足软性产品处理需求。

v 低温等离子体,避免对产品产生热损伤。

v 电中性等离子体,对产物无电破坏。

v 配置磁流体旋转架,增加Plasma处理均匀度。

v 高效、均匀的微波等离子输出,保障蚀刻效率。





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