泰纳克熔片机

泰纳克熔片机 ：

熔样效果佳

该机采用先进的炉体摆动和样品架自旋同时进行的设计，确保样品熔体的涡流式运动，在*短的时间内达到*佳的均匀度和*佳的排气泡效果。

适合多种材料的不同温度下熔样

本机采用硅碳棒式加热，S型铂铑热电偶测温，液晶触摸式显示屏+PLC+AI人工智能控制，全新智能化人机操作系统，具有故障自检、易于操作、运行可靠等特点，参数默认式设计，使操作更为简单、安全、自动化程度更高、控温更*确，多种材料不同温度下均可达到高质量的熔样效果，具有优良的分析再现性，能满足多种行业分析标准的要求。

设有多项保护功能

设计有多项保护功能，如断偶、超温等，当超温或超越限位行程时同样采用软硬件双重保护，从而保障设备长期稳定运行。

泰纳克熔片机 ：

主要技术指标：   

■控制系统：AI智能控制

■长×宽×高：1120mm×620mm×1050mm

■升温速度：平均30℃/min

■额定温度：0~1250℃

■加热元件：枪型硅碳棒（φ14×250×175×50）

■控温精度：±1℃保温时±2℃（S型单铂铑热电偶测温）

■熔样数量：4位（一次成型或浇注成型）

■炉体摆动角度：0~40°可调

■托架旋转速度：0~30r/min可调（变频器无极调速、可正反向旋转）

■可提供9条工作曲线

■熔样时间的选择

  前静置时间0~160min可选

  摆动时间0~160min可选

  后静置时间0~160min可选

  极限运行时间165h

■仪器重量：设备总重380kg

■设备功率：8kw

■电源要求：加热电路单相380V  控制电路单相220V

■额定电流：30A

■额定频率：50Hz