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285nm二氧化硅基底的单层氮化硼薄膜

285nm二氧化硅基底的单层氮化硼薄膜

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更新时间：2024-06-03 17:00:17浏览次数：1436次

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产品简介
供货周期 现货 应用领域 环保,化工,能源,综合
Single Layer CVD hexagonal Boron Nitride Film on 285 nm SiO2/Si substrates (p-doped), 1cmx1cm: 8 pack
Properties of BN film
97% coverage with minor holes and organic residues
High Crystalline Quali

详情介绍

Single Layer CVD hexagonal Boron Nitride Film on 285 nm SiO2/Si substrates (p-doped), 1cmx1cm: 8 pack

Properties of BN film

97% coverage with minor holes and organic residues

High Crystalline Quality

The Raman spectrum should peak at ~1369cm-1

 


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