产地类别 | 进口 | 应用领域 | 电子,电气,综合 |
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自1990年来薄膜淀积设备制造商。
拥有独立的室内实验室用于材料研究和工艺开发。
提供广泛的服务,包括淀积设备、淀积部件、集成传感器以及工艺控制
设备制造和工艺技术的高度结合,为客户提供可靠的技术服务
实验室7台应用淀积设备生长出的材料
多条设备生产线几乎覆盖了整个薄膜淀积设备市场
在薄膜淀积领域拥有超过120台设备的供应商。
北京中精仪科技有限公司 |
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参考价 | 面议 |
具体成交价以合同协议为准 |
更新时间:2024/09/23 09:04:52浏览次数:3112
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美国SVT公司ALD原子层沉积系统
自1990年来薄膜淀积设备制造商。
拥有独立的室内实验室用于材料研究和工艺开发。
提供广泛的服务,包括淀积设备、淀积部件、集成传感器以及工艺控制
设备制造和工艺技术的高度结合,为客户提供可靠的技术服务
实验室7台应用淀积设备生长出的材料
多条设备生产线几乎覆盖了整个薄膜淀积设备市场
在薄膜淀积领域拥有超过120台设备的供应商。
NorthStar ALD系统介绍
NorthStar ALD原子层沉积系统提供各种淀积方法,包括热淀积以及能量增强淀积。
每台设备可以提供多达8个源管路以及一个热壁淀积腔,使其应用范围极为广泛。
设备的快速舱口盖或装载室(可选件)使样品操作快捷方便。
NorthStar ALD系统不但能跟其他设备连接起来,还能连接多种测量仪器。
原位测量工具以及RoboALD软件自动化系统提高了工艺的再现性。
可以直接升级至超高真空
提供工艺演示以及工艺培训服务
为潜在客户提供免费样品测试。
应用领域
High-K电介质
纳米涂层
MEMS
光子晶体
扩散阻挡层
器件封装
表面改性层
技术参数
为科研客户量身打造优质的原子层沉积系统。
提供4"、6"、8"、12"等多种尺寸的样品平台。
针对客户的需求,提供多种输气设计。
---可控真空度: 1 Torr to UHV
---气道加热
---气体快速进出
---样品尺寸: 4in standard, optional 12in
---基底加热: up to 300 ℃, optional higher temp
主要特点
安全的设计,多样化的配置,测试手段。
精确的控制手段打造*的成膜质量。强大的科研团队铸就雄厚的科技实力。
---气体离子化
---臭氧输送装置
---石英振荡器
---四重质量分光计
---实时温度显示
---椭偏仪
---进样室
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