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  • POLOS® BEAM XL Mk2无掩模光刻机

    POLOS® BEAM XL Mk2无掩模光刻机-0.1 µm 重复性和 6“ 平台行程-0.8 微米分辨率

    型号: 所在地:武汉市参考价: 面议更新时间:2025/1/14 13:39:16 对比
    POLOSBEAM XL Mk2无掩模光刻机6“平台行程0.8微米分辨率进口
  • POLOS® BEAM Mk2 无掩模光刻机

    POLOS® BEAM Mk2 无掩模光刻机- 0.1 µm 重复性和 4“ 平台行程-分辨率为 0.8 微米

    型号: 所在地:武汉市参考价: 面议更新时间:2025/1/14 13:32:26 对比
    POLOSBEAM Mk2 无掩模光刻机0.1µm重复性4“平台行程进口

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