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ChemTron DAB-3/DAB-3 (400ml) 压力消解罐

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  • 型号
  • 品牌 Chemtron
  • 厂商性质 代理商
  • 所在地 北京市
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更新时间:2024/04/20 16:57:50浏览次数:2010

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产品简介

产地类别 进口 应用领域 食品,化工,生物产业,文体,石油
ChemTron 压力消解罐(水热合成釜)Chemtron 消解罐压力高达200bar,为难以消解的样品提供理想的解决方案,可配套*的加热单元,加样简单便捷,实验重复性强。

详细介绍

水热合成实验

水热合成法是指温度为100 ~ 1000 ℃、压力为1MPa ~ 1GPa 条件下利用水溶液中物质化学反应所进行合成的方法。在亚临界和超临界水热条件下,由于反应处于分子水平,反应活性提高,因而水热反应可以替代某些高温固相反应。又由于

水热反应的均相成核及非均相成核机理与固相反应的扩散机制不同,因而可以创造出其它方法无法制备的新化合物和新材料。水热合成可分为:水热氧化,水热沉淀,水热合成,水热还原,水热分解,水热结晶等


安全

压力消解罐采用高品质不锈钢材质和高密度PTFE内衬,确保实验操作的可靠性和安全性。

* 所有容器均经过 TUV 测试认证

* 操作压力可达 200bar

* 温度可达 250℃,实验周期可达数天

* 爆破片确保操作人员的安全

* 密封技术确保易挥发物质不会流失和扩散

* 当消解罐被打开时,控制压力将会释放


内衬技术

根据容积不同,TFM-PTFE 高密度内衬从50ml 到250ml 范围可选,安全耐腐蚀,使用寿命长,操作简单便


可靠的反应控制

高精度温度控制器确保参数统一监控,该控制器可以进行升温程序编程。Chemtron 消解罐可与实验室日常工作结合起来,进行隔夜实验测试,避免样品转移带来的麻烦


加热

Chemtron 针对不同体积的消解罐,可提供不同数量孔位的加热装置,可支持12 位消解罐同时进行温度控制


应用

制备超细颗粒,无机薄膜,微孔材料,超临界合成等工艺研究难消解样品的高温高压消解


技术参数

型号

DAB-3

DAB-3 (400ml)

性能

材质

316 钛钢和 TFM-PTFE 内衬


极限温度

230℃

230℃


极限压力

200 bar

200 bar

消解罐体

内部直径

74 mm

74 mm


内部高度

183mm

264 mm

TFM-PTFE

内衬

容积

150 ml

250 ml

420ml


内部直径

44 ml

53ml

55 ml


内部高度

90 ml

97ml

176 ml

附件

安全附件

爆破片

加热单元

加热块

1, 2, 4 位可选

1, 2, 4 位可选




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