C-43型 9英寸高精度国产光刻机多点光源曝光头是一款专用于中小规模集成电路、半导体元器件以及声表面波器件的研制和生产的优良设备。其出色之处在于其高度优良的找平...

C-43型多点光源曝光头高精度国产光刻机主要用途是在中小规模集成电路、半导体元器件和声表面波器件的研制和生产中使用。C-43的出色之处在于其先进的找平机构，这使...

C-33型 4英寸 国产高精度对准光刻机主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产。由于本机找平机构先进，找平力小、使本机适合硅片、玻璃片...

C-33型 国产双面光刻机 精密光刻设备被广泛应用于中小规模集成电路、半导体元器件、以及声表面波器件的研制和生产。它的高级找平机构使其适用于各种材料的曝光，包括...

C-31型 双面国产光刻机主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产。由于本机找平机构先进，找平力小、使本机适合硅片、玻璃片、陶瓷片、铜片...

C-25XB型 4英寸/6英寸 高精度对准光刻机本机针对各大专院校、企业及科研单位。对光刻机使用特性研发的一种高精度的光刻机，三层减震，组合式，拆卸方便。它主要...

C-25X型4英寸/6英寸单面光刻机精密光刻设备针对各大专院校、企业及科研单位。对光刻机使用特性研发的一种高精度的光刻机，三层减震，组合式，拆卸方便。它主要用于...

C-25XA型 4英寸/6英寸 高精度对准光刻机针对各大专院校、企业及科研单位。对光刻机使用特性研发的一种高精度的光刻机，三层减震，组合式，拆卸方便。它主要用于...

C-25型单面光刻机 高精度主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产。由于本机找平机构先进，找平力小、使本机不仅适合硅片、玻璃片、陶瓷片...