目录:北京中显恒业仪器仪表有限公司>>德国徕卡显微镜>>徕卡工业显微镜>> UVM-1™全光谱显微镜
| 产地类别 | 进口 | 应用领域 | 生物产业,电子,综合 |
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UVM-1™全光谱显微镜的设计是将紫外-可见-近红外成像技术和显微技术相结合，能够*的实现紫外-可见-近红外的成像。具有前沿技术的UVM-1™全光谱显微镜结合CRAIC创新设计的光学技术，用户仅用一台显微镜就能在整个宽光谱范围内完成显微成像，无论是高分辨能力，还是光谱成像能力。
UVM-1™全光谱显微镜具有*的多功能系统设计，能够允许用户只在一台显微镜上获得紫外-可见-近红外的高分辨率成像和分析结果。紫外显微镜对半导体内微量异物有很高的灵敏性，相比标准的显微镜，具有更强大的的能力测量微量变化。近红外显微镜能够无损的、有选择性的对硅晶片设备内部的电子电路进行精确的成像,这些应用知识是其众多应用领域的一小部分。 UVM-1™也可与拉曼一起提供给您更多的功能。
全光谱显微镜技术参数参数
| 显微镜光谱范围 | 200-2500nm |
| 荧光光谱法范围 | 300-1000nm |
| 探测器 | CCD (UV-vis) /InGaAs (NIR) |
| 可见光成像 | 500万(200-2500nm) |
| 紫外成像 | 200-400nm |
| 近红外成像 | 900-1700nm |
| 高分辨率UV成像 | 可选 |
| 高分辨率NIR成像 | 可选 |
| UV-Visible-NIR物镜 | 可选 |
| TE冷却固体传感器 | 可选 |
| 显微镜自动化 | 可选 |
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