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戴安074532 KOH淋洗液发生器用来电解产生高纯度淋洗液等度或梯度淋洗。淋洗液发生器能避免基线漂移，增加灵敏度，提高分离度，保证色谱峰积分良好重复性。戴安公司目前提供一系列的淋洗液发生罐产品，包括氢氧根体系淋洗液发生罐，碳酸根体系淋洗液发生罐和甲磺酸体系淋洗液发生罐。
产品简介
详细介绍
戴安阴离子抑制器064554/082540
旧货号 旧产品描述 新货号 新产品描述
064554 ASRS 300 (4 mm) 082540 AERS 500 (4 mm)
064555 ASRS 300 (2 mm) 082541 AERS 500 (2 mm)
064556 CSRS 300 (4 mm) 082542 CERS 500 (4 mm)
064557 CSRS 300 (2 mm) 082543 CERS 500 (2 mm)
戴安ERS 500抑制器具有相同的适应，形态和功能作为戴安SRS抑制因子300；他们已设计和验证，直接解决所有的应用程序通过戴安SRS 300抑制器目前支持以下例外：
戴安ERS 500抑制不支持化学再生模式。热电科学?戴安?MMS?微膜抑制器300推荐的化学再生模式。
戴安ERS 500抑制器的设计采用了大量的设计改进.戴安阴离子抑制器064554/082540
线性洗脱液路
EK洗脱和再生室设计
O形圈密封
优化再生通道，洗脱液的通道和电极配置,离子交换树脂填充洗脱液室。降低洗脱液流路径长度。串行再生流速,戴安ERS抑制因子500使用相同的膜和再生的屏幕为戴安SRS 300抑制，提供了相当的抑制性能。