高真空电子東及热阻薄膜沉积系统--DZS500 参考价：面议
高真空电子東及热阻蒸发薄膜沉积系统--DZS500真空室结构:U形前开门真空室尺寸:500x500x600mm极限真空度:≤6.67E-5Pa沉积源:4个11c...
高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD500 参考价：面议
高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD500真空室结构:方形前开门真空室尺寸:p500x500x500mm极限真空度:≤3.0E-5Pa沉积源:永磁靶4套，2英寸...
高真空磁控溅射薄膜沉积系统--TRP450 参考价：面议
高真空磁控溅射薄膜沉积系统--TRP450真空室结构:圆筒形前开门真空室尺寸:φ450x400mm极限真空度:≤6.6E-6Pa沉积源:永磁靶3套，2英寸，可以...
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