台式原子层沉积镀膜系统 参考价：面议
该台式原子层沉积镀膜系统拥有达到或超过市场上其他品牌的功能，同时易于使用和维护 - 成本低于当今市场上的价格腔室温度：室温到325°C±1&...
磁控溅射镀膜机 参考价：面议
磁控溅射镀膜机具有射频溅射，直流溅射，脉冲直流溅射；304不锈钢圆柱形腔体，标准直径有18英寸和24英寸，手动传片或自动传片,适合各种形状尺寸的小片到200mm...
脉冲激光外延制备镀膜系统 参考价：面议
脉冲激光外延制备镀膜系统脉冲激光外延制备系统凭借着优异的性能, PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统在国内外拥有较多用户，为众多老师开启薄膜外延制备的新篇...
脉冲激光沉积镀膜设备 参考价：面议
脉冲激光沉积镀膜设备激光在真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获...
狭缝挤出式涂布镀膜机 参考价：面议
狭缝挤出式涂布镀膜机粘度范围：1-20000cps，应用衬底：玻璃， PET聚酯， 纸张，幅宽：90mm, 120mm, 300mm。
微型磁控溅射镀膜设备 参考价：面议
微型磁控溅射镀膜设备这款来自美国的微型磁控溅射系统满足研究所和研发部门对真空薄膜沉积的性能要求，占用空间小，具有超高的性价比，可以向客户提供优质的服务。
超高真空磁控溅射镀膜系统 参考价：面议
超高真空磁控溅射镀膜系统美国专业的制造商PVD公司是一家在磁控溅射沉积，电子束蒸发沉积，脉冲激光沉积等领域有着20年制造经验。
电子束蒸发镀膜系统 参考价：面议
E-Beam电子束蒸发镀膜系统304不锈钢圆柱形腔体，标准直径有18英寸和24英寸，分子泵或冷凝泵；手动传片或自动传片,适合各种形状尺寸的小片到200mm大的圆...
金属有机化合物化学气相沉积镀膜设备 参考价：面议
金属有机化合物化学气相沉积镀膜设备反应器的设计可以根据工艺的需要很容易提升到满足大直径晶片生产的需要。我们也能为客户设计以满足客户特殊工艺和应用的需要。系统部件...
超高真空多腔室物理气相沉积镀膜系统 参考价：面议
超高真空多腔室物理气相沉积镀膜系统该系统由专业的沉积设备商制造,配置多种沉积方式（预留各种功能接口）,高度灵活,非常适合多种沉积模式的科研.
等离子体增强化学气相沉积镀膜系统 参考价：面议
等离子体增强化学气相沉积镀膜系统通常选用射频淋浴源（RF）或带有不规则气体分布的空心阴极射频等离子体源作为反应源产生等粒子体。部分PECVD可以升级到PECVD...
等离子体增强原子层沉积镀膜系统 参考价：面议
等离子体增强原子层沉积镀膜系统一个基本的原子层沉积循环包括四个步骤：脉冲A，清洗A，脉冲B和清洗B。沉积循环不断重复直至获得所需的薄膜厚度，是制作纳米结构从而形...
脉冲激光分子束外延镀膜系统 参考价：面议
脉冲激光分子束外延镀膜系统凭借着优异的性能, PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统在国内外拥有较多用户，为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章。
脉冲激光沉积镀膜系统 参考价：面议
脉冲激光沉积镀膜系统真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有...
反应离子刻蚀设备 参考价：面议
反应离子刻蚀设备为达到此目的，必须对真空度，气体流量，离子加速电压等进行佳调整，同时，为得到高密度的等离子体，需用磁控管施加磁场，以提高加工能力。我司提供多型号...
原子层沉积镀膜系统 参考价：面议
原子层沉积镀膜系统1.ALD （传统的热原子层沉积）；2.PEALD （等离子增强原子层沉积）；3.Powder ALD （粉末样品的原子层沉积）；
台式磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
台式磁控溅射镀膜仪该系统可以作为以下功能装置：1，研发级R&D镀膜设备，性能优异2，具备所有研发级别的镀膜要求3，高效的沉积速率，镀膜时间快4， 实验室中培训的...
金属有机化学气相沉积镀膜系统（MOCVD） 参考价：面议
金属有机化学气相沉积镀膜系统（MOCVD）其反应器的设计可以根据工艺的需要很容易提升到满足大直径晶片生产的需要。我们也能为客户设计以满足客户特殊工艺和应用的需要...
超高真空多功能薄膜制备系统 参考价：面议
超高真空多功能薄膜制备系统此系统可以配置多种沉积方式（预留各种功能接口）,高度灵活,非常适合多种沉积模式的科研. 高真空条件沉积模式（使用机械泵+分子泵，或冷凝...
有机分子束沉积镀膜系统 参考价：面议
有机分子束沉积镀膜系统电子束蒸发系统、热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OMBD、等离子增强化学气相淀积系统PECVD/ICP Et...
在线量产型磁控溅射镀膜系统 参考价：面议
在线量产型磁控溅射镀膜系统 高转换效率大容量吸收，电池可靠性长达10年抗辐射
离子束刻蚀设备 参考价：面议
离子束刻蚀设备离子抛光离子清洗等离子体灰化等离子体氧化、氮化表面改性 反应刻蚀 生物医药传感器
PECVD+RIE等离子体增强化学气相沉积设备 参考价：面议
PECVD+RIE等离子体增强化学气相沉积设备该系统中的PECVD可以沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等。标准配置射频（...
反应离子刻蚀设备（美国产，高性价比） 参考价：面议
反应离子刻蚀设备（美国产，高性价比）-聚合物或光阻的等温各向同性干刻-硅片或玻璃表面清洁-硅表面氧化去除
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