主要特点

•    采用气体作为清洗介质，避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。
•    可短时间内*清洗掉有机污染物。
•    清洗程度可达到分子级。
•    可在特定条件下根据需要改变某些材料表面的性能。
•    清洗过程中的辉光放电可对某些特殊用途的材料加强粘附性、相容性和浸润性，并可消毒和杀菌。
•    样品台可选配加热功能，可加负偏压，用以实现离子蚀刻。
•    广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。

参数

•    电压：AC220V  10A
•    消耗功率：<500W（包括真空泵）
•    RF电源：输出功率100W，输出频率13.56MHz
•    腔体：Φ190mm×98mm
  
•    石英管：Φ180mm×55mm，壁厚7mm
•    内腔：Φ165mm×55mm
•    清洗电极：Φ120mm
•    样品台：Φ150mm，有效尺寸Φ140mm
•    样品台与电极间距：15mm-50mm可调
•    抽气管：Φ12mm
•    极限真空度：0.1Pa
•    工作真空度：60Pa-500Pa
•    气路数量：2路（选装）
•    流量控制器数量：1、2
•    流量显示仪：2通道
•    气路接口：Φ6mm
•    加热样品台：Φ140mm，加热样品温度RT-600℃±1℃（选装）
•    冷却水压力：0.2KPa-0.4KPa
•    工作环境：温度5℃-35℃，湿度<80%（相对湿度）不结露，海拔高度0-2000m

产品规格

• 　尺寸：245mm×235mm×460mm（不含真空泵）
•   重量：20kg（不含真空泵）

可选配置

•    加热样品台
•    流量控制器（量程10、50、100，zui多可增加2个通道）