-OTF-1200X-50-PE-S-PECVD管式炉_PECVD管式炉-中美合资合肥科晶材料技术有限公司

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CVD、PECVD设备

CVD管式炉

PECVD管式炉

OTF-1200X-50-PE-S是一款小型的PE-CVD（等离子体气相沉积）管式炉系统。此套设备带有500W的等离子射频电源，一个炉管直径为50mm的开启式管式炉（带有真空法兰和连接管道）和一个直联式双旋机械泵。因此这套设备模型可以更新为不同的PECVD 系统。对于有限的经费的情况下来进行材料探索，此套系统极为理想。

详细介绍

特征：

1、与普通CVD相比可以在低温环境下进行气相沉积实验

2、对于薄膜的应力可以通过射频电源的频率来进行控制

3、通过工艺调节来控制化学计量

4、能够广泛地用于各种材料沉积，如SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等.

技术参数

开启式管式炉	输入电源：208 – 240V AC, 1.2kW zui高工作温度1200℃（小于1小时）连续使用温度1100℃ 采用高纯氧化铝作为炉膛材料，并且表面涂有美国进口高温氧化铝涂层，可延长仪器使用寿命和提高加热效率高纯石英炉管，尺寸为 50mmOD x 44mmID x 780mmL 可设置30段升降温程序，并带有过热和断偶保护加热区长度为200mm,恒温区长度为60mm(+/-1°C) （点击图片查看详细资料）
等离子体射频电源	输出功率: 5 -500W可调稳定性为+/-1% 射频电源频13.56 MHZ, 稳定性±0.005% zui大反向功率: 200W max 射频电源电子输出口: 50 Ω, N型半岛体, 阴极噪声<50 dB. 冷却方式：空气冷却输入电源: 208-240VAC, 50/60Hz
真空法兰和接头	真空法兰采用304不锈钢制作左端法兰上安装有防腐型数字真空计、不锈钢针阀和一个球阀。右端法兰设计为KF25接口，上面配有泄气阀，挡板阀和两个KF25卡箍仪器中所配的数字真空计，可以不用因使用气体的不同而进行校正，同时还具有防腐功能（请点击图片查看详细介绍）
真空泵	AC 220V 50 Hz 1/2HP 375W 2L/s 与本公司管式炉配套使用，可使其真空度达到10-2 torr 进气端带有储气球（防止回油），出气端安装有油雾过滤器（防止油雾扩散到空气中，保护环境和人体健康）
产品尺寸和重量	外形尺寸：1500mm x 600mm x 1200mm( L x W x H) 净重: 160 lbs
可选配置	请点击查看下面的混气及气液混合系统防腐型小型三路浮子混气系统精密气液混合系统三路质子混气系统
质保期	一年质保期，终生维护（不包括炉管、硅胶密封圈和加热元件）
质量认证	CE Certified