Alpha-Step台阶仪 返回列表页

一. Alpha-Step台阶仪设备特点

• 台阶高度：几纳米至1000μm(D500 至1200μm）

• 低触力：0.03至15mg

• 视频：500万像素率彩色摄像头

• 梯形失真校正：消除侧视光学系统引起的失真

• 圆弧校正：消除由于探针的弧形运动引起的误差

• 紧凑尺寸：小占地面积的台式探针式轮廓仪

   主要应用

• 台阶高度：2D台阶高度

• 纹理：2D粗糙度和波纹度

• 形式：2D翘曲和形状

• 应力：2D薄膜应力

   应用领域

    大学，研究实验室和研究所

• 半导体和复合半导体

• SIMS：二次离子质谱

• LED：发光二极管

• 太阳能

• MEMS：微电子机械系统

• 汽车

• 医疗设备

二. Alpha-Step台阶仪应用案例

台阶高度

  Alpha-Step D-300 探针式轮廓仪能够测量从几个纳米到1000μm的2D台阶高度（D-500则是几纳米到1200微米）。 这使其可以量化在蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP 和其他工艺期间沉积或去除的材料。 Alpha-Step系列具有低触力功能，可以测量如光刻胶的软性材料。

纹理：粗糙度和波纹度

  Alpha-Step D-300/500 测量 2D 纹理，量化样品的粗糙度和波纹度。 软件过滤功能将测量值分离为粗糙度和波纹度的部分，并计算诸如均方根（RMS）粗糙度之类的参数。

外形：翘曲和形状

   Alpha-Step D-300/500可以测量表面的2D形状或翘曲。 这包括对晶圆翘曲的测量，例如在半导体或化合物半导体器件生产过程中，多层沉积层结构中层间不匹配是导致这类翘曲产生的原因。Alpha-Step还可以量化包括透镜在内的结构高度和曲率半径。

应力：2D薄膜应力

  Alpha-Step D-300/500能够测量在生产包含多个工艺层的半导体或化合物半导体器件期间所产生的应力。 使用应力卡盘将样品支撑在中性位置精确测量样品翘曲。 然后通过应用Stoney方程，利用诸如薄膜沉积工艺的形状变化来计算应力。