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迈可诺技术有限公司
主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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2014-7-25 阅读(4801)
It’s not only Spin Coater, it’s Spin Processor!
——匀胶机顾名思义，一种可以“让胶液均匀涂敷的机器”。MYCRO的WS-650S所有数据结果都可以通过电脑输出并予以保存。完成从单纯旋转机器到旋涂仪器的升级。
匀胶机是一种常见用于材料薄膜制备工艺的实验室设备，它的原理相对比较简单，利用电机高速旋转时所产生的离心力使得试液或者胶液均匀地涂敷在基底材料的表面，顾名思义，一种可以“让胶液均匀涂敷的机器”。
匀胶机有很多称谓，匀胶台，旋转涂膜机，旋转涂层机或者旋转涂敷机等等，它的英文是 Spin Coater（旋转涂膜的意思）。
匀胶机既然是科研开发上制备薄膜材料*的方法之一，使用者对于该设备zui大的期待就在于其能够“均匀”地涂敷试液或者胶液。通常我们会用均一性和可重复性来衡量薄膜材料制备的好坏。
国内外对于这种匀胶旋涂设备的发展呈现出很大的差距。中国先开展匀胶机研制的单位是中科院微电子所，推出的KW-4A型号的匀胶机，具有低速起步和高速旋转两个单位。
国外的高性能匀胶机zui早则集中在美国和德国。后来随着半导体工业的发展，日韩等国家也开发出性价比较高的匀胶机器。
日韩等国随着在半导体制程，LCD，TFT显示材料的研发制造等领域的发展占据先机，所开发的产品基本上集中于半导体湿制程系列工艺中的自动化控制系统，由于涉及到与其它工序的自动化集成的趋势，故产品价格高得也令人咂舌。目前美德诸多公司也放弃利润低下的单独功能的匀胶产品发展，全部集中于半导体整体工艺的解决方案提供。
MYCRO美国产的匀胶设备WS-650MZ和WS-650HZ系列，除了对于转速的精密控制以外（转速范围50~12000转/分，分辨率小于0.5转/分，可重复性小于±0.5转/分，由美国NIST工业标准认证，无需再校准，加速度可达80000RPM/S，zui低则可达1RPM/S），加速时间可调范围1秒至99分59.9秒，zui小增加度0.1秒。
MYCRO的WS-650MZ和WS-650HZ匀胶机还可以通过与电脑链接，以及随机附带的SPIN分析软件，对于每次实验结果进行分析调试，并挑选出*的制备过程。所有数据结果都可以通过电脑输出并予以保存。完成从单纯旋转机器到旋涂仪器的升级。
