高压均质机纳米均质机，2.2KW的大率电机，保证压下稳定作殊的料阀，排气，直接料内置冷却物质循环系统，直接冷却均质点，所有接触物料管道均为316L不锈钢材质。

烤胶机参数：1、温度范围： 室温-450℃，温控连续可调。2、可设定配方： 10 段，N 组配方3、外设： 配方可导出，可外接鼠标键盘4、恒温波动度： ...

手动压钠机孔径约1mm,使用时将金属钠剪成长条即可。 便宜实用，*，*！ 是科研单位、药物实验、有机合成中对钠块行无水无氧挤压成丝条的理想机械

的MHY-26174型旋涂机适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等，制版的表面涂覆。该产品具有转速稳定和启动迅速等优点，并能保证半导体材料中涂胶...

主要用于液体，胶体的成膜性能试验，表面涂覆。*MHY-26173匀胶机 电脑（单片机）控制，可预置并记忆转速，控制转盘均匀加速；2段式作方式

匀胶机产品简介：主要用于液体，胶体的成膜性能试验，表面涂覆。*电脑控制，可预置并记忆转速，控制转盘均匀加速； 旋转时间预置，到时，控制转盘均匀减速。 *转速:3...

MHY-26377台式数显匀胶台是集成电路、半导体电路、掩模版制、激光息商标制过程中用于在基片上行光刻胶涂布的用设备。

数显匀胶台本机是用于半导体、集成电路及激光息商标制过程中，在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻（感光）胶的用设备。本机的作原理是利用速旋转时产生的离...

匀胶机精度 指标 基片尺寸 5-200mm 速度范围 1-12000RPM 转速精度 1RPM 转速稳定度 ±0.1% 加速度范围 1-10000RP...

匀胶机参数 ：1、调速范围和匀胶时间Ⅰ档　调速范围：50-10000转／分，Ⅰ档　匀胶时间：0-999秒Ⅱ档　调速范围：50-10000转／分，Ⅱ档　匀胶时间：...

匀胶机/适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等，制版的表面涂覆。该产品具有转速稳定和启动迅速等优点，并能保证半导体材料中涂胶厚度的*性和均匀性。...

1、智能程控匀胶机带进胶保护与报警，2、旋涂正反转可自由切换，3、带速度上升曲线实时显示，4、吸附不足报警与互锁，5、旋涂腔室整体采用PTFE材料防酸防碱防腐蚀...

烤胶机概述：主要用于光刻中的旋转涂胶后的软烘，曝光后烘烤，显影后的坚膜，磨片粘片熔蜡。

恒温匀胶机简介：主要用于液体，胶体在材料表面薄膜的形成，适用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷等制版表面涂覆。可在科研，教育，中应用。别是：可以成有机物的匀胶。（摄氏温度...

产品简介：MHY-26227匀胶仪旋涂仪主要用于液体，胶体在材料表面形成薄膜。MHY-26227性能匀胶机旋涂仪 适用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷，不锈钢，金属等制...

匀胶台/是用于半导体、集成电路及激光息商标制过程中，在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻（感光）胶的用设备。本机的作原理是利用速旋转时产生的离心力，...

智能程控匀胶机基片尺寸 5-150mm速度范围 1-10000RPM转速度 1RPM转速稳定度 ±0.1%加速度范围 1-10000RPM/S胶均匀性...

智能旋转程控匀胶机​带防飞片保护与报警 2.带防胶保护与报警3.电机可正反转4.配方带掉电保护能5.加速度可调度 标基片尺寸 5-150mm速度范围 1-100...

MHY-27126滴胶机是款小型，可以的将溶液滴到基片上。针管的使用让更换溶液非常简单，不用清洗，不用担心其它溶液的潜在污染。这些点可以使滴胶作*化，成为实验室...

a） .滴胶机温度范围：室温~300，温控可调b） 恒温波动度≤±2°Cc） 温度均匀性≤±3%（Z温度时，作台板上各处温度均匀性...