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TRILOS(泰洛思)超高压纳米均质机在氮化硅(Si₃N₄)高强度散热陶瓷中的应用
检测样品:氮化硅(Si₃N₄)高强度散热陶瓷
检测项目:分散均质稳定性
方案概述:氮化硅陶瓷是高品质功率半导体关键散热基板材料,但粉体易产生硬团聚,传统研磨工艺存在分散差、易引入杂质、量产良率低等痛点。本文介绍 TRILOS 超高压纳米均质机,依靠超高压流体剪切、空化、颗粒对撞作用破碎硬团聚,实现浆料纳米级分散,保障烧结后基板致密度、强度与导热性能,可实现从研发到量产的工艺线性放大,助力氮化硅散热陶瓷产业化。
关键词:氮化硅陶瓷;超高压纳米均质机;浆料分散;功率半导体;散热基板
氮化硅(Si₃N₄)陶瓷是目前综合性能至优的结构功能一体化热管理材料,兼具高导热、超高抗弯强度、高韧性、低热膨胀、耐高温、抗热震等多重优势,适配新能源汽车主驱IGBT、光伏逆变器、航空航天高温器件等高要求工况散热场景,是高品质功率半导体封装的核心基板材料。器件长期处于高温、高压、冷热交替冲击的严苛工况,普通陶瓷基板易出现开裂、热衰、变形等问题,而氮化硅陶瓷凭借优异的力学与热学性能,成为高可靠功率器件封装的核心基材。
图1 SiC 功率器件层叠散热结构示意图
氮化硅陶瓷的性能核心取决于浆料分散质量与烧结晶型转化效果,但氮化硅粉体硬度高、表面性质特殊,配成浆料后极易形成不可逆的高强度硬团聚,传统研磨设备的机械撞击力无法破碎团聚内核,残留的大颗粒团聚体最终会在陶瓷基板内部形成气孔、裂纹等致命缺陷。此外,氮化硅烧结需要搭配稀土、铝镁系复合烧结助剂,助剂配比精细、添加量极低,传统工艺难以实现均匀分散,会直接影响α-Si₃N₄向高导热、高韧性β相柱状晶的转化,导致基板强度不足、导热性能波动大。同时,传统球磨、砂磨工艺处理高硬度氮化硅浆料时,设备磨损严重,易引入杂质,制备的浆料批次差异大、稳定性差,沉降分层明显,破坏陶瓷高温稳定性与力学性能,且工艺重复性差,量产良率难以把控,严重制约高品质氮化硅陶瓷的规模化量产。
TRILOS超高压纳米均质机可针对性解决氮化硅浆料制备难题,设备可实现4000bar超高压稳定运行,3000bar区间可长期连续量产作业,搭载超高耐磨人造金刚石分散腔,可耐受高硬度氮化硅材料的长期冲刷,无磨损、无杂质析出。超高压产生的强流体作用力,可精准破碎氮化硅的化学键硬团聚,消除浆料中粗大颗粒,实现浆料纳米级均匀分散。
TRILOS 超高压纳米均质机的工作原理
该设备基于超高压流体力学效应设计,物料在精准可控高压驱动下高速通过微结构均质腔,瞬时承受高强度剪切、湍流空化、颗粒对撞三重物理作用,可破除颗粒软硬团聚、细化颗粒尺寸,实现固液两相均匀分散。设备压力调控精度高、运行稳定性优异,不堵不漏,适配低粘度氮化硅陶瓷浆料处理,可实现实验室工艺参数到规模化生产的线性放大,满足产业化生产需求。
图2 均质机原理图
图3 TRILOS超高压纳米均质机
应用案例
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