实验室无掩膜曝光机产品特点：
数字光刻系统
微纳器件无掩模版直写光刻
光掩模版制作
3D结构曝光功能
自动对准功能
用户自定义标记对准功能
可视化定点曝光功能
自动聚焦功能
不规则样片曝光
快速、精细两种曝光模式
支持多种数据格式（GDSⅡ/ Gerber/ O DB++）
背部对准功能（选配）
405nm LD光源（375nm可选）
实验室无掩膜曝光机参数：
型号 | MLC Lite | ||
ModeⅠ | Mode Ⅱ | Mode Ⅲ | |
最小特征尺寸 | 0.5μm | 1μm | 2μm |
最小线宽线距 | 0.8μm | 1.2μm | 2.5μm |
CD均匀性 | 10% | 10% | 10% |
两层对位精度 5x5m㎡ | 500nm | 800nm | 1000nm |
两层对位精度 50x50m㎡ | 800nm | 1000nm | 1500nm |
产能 | 50mm²/min | 100mm²/min | 300mm²/min |
最小基板尺寸 | 5mm x 5mm | ||
基板厚度 | 0.1 - 12mm(可选) | ||
曝光面积 | 150mm x 150mm | ||
灰度曝光 | 可选128阶 | ||
曝光光源 | Laser, 405nm or 375nm | ||
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