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日本Otsuka大塚FE-300光谱分析膜厚量测仪

具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称 成都藤田科技有限公司
  • 品牌 OTSUKA/日本大塚
  • 型号
  • 产地
  • 厂商性质 代理商
  • 更新时间 2025/2/21 14:31:29
  • 访问次数 121

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联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


公司简介

COMPANY INTRODUCTION

成都藤田科技有限公司经营进出口业务7年有余,位于西南地区四川成都;通过不断努力、进步与各类日本、部分欧美品牌建立长期稳定的合作关系,覆盖电子产品、工具、电子元器件、仪器仪表、防静电设备、辅料、自动化设备、非危险性化工产品、机械设备及配件、通信设备。

成都藤田科技供货渠道

因为长期良好的经营环境,获得国内外客户与商社的喜爱,随着互联网的发展建立了专有的网络模式MRO;

坚持以服务客户为主的经营理念、追求客户满意服务为宗旨、礼貌诚信为原则提供客户服务,并以成为客户值得信赖的工业品综合服务商为目标。

MRO两种形式

  1. 超市建立工业品专柜,大型超市也会经营部分工业品,但种类和数量有限。

  2. 网上工业品超市,这种形式配送可为客户大规模找寻产品,使供应商和采购商都实现“进入一个点,得到一大片”连锁效应,有效降低采购商采购成本。

代理品牌:

  1. 日本MUSASHI武藏(点胶机

  2. 日本HOYA豪雅 (UV固化灯,玻璃镜片)

  3. 日本SIGMAKOKI西格玛 (光学元件、物镜等)

  4. 日本YUMEX优美科思(各种疝气灯)

  5. 日本TOKISANGYO东机产业(粘度计

  6. 日本KANOMAX加野(风速仪)

  7. 日本YAMADA雅玛达(隔膜泵)

  8. 日本EPSON爱普生 (机械臂)

  9. ATTEN安泰信 (焊接产品)

  10. 日本TSUBOSAN壶三(锉刀工具)

  11. 日本sakurai樱井(无尘纸

  12. 韩国DIT东日技研(除静电产品)

  13. 韩国HANIL韩一(搅拌机)

优势品牌:

  1. 日本Otsuka大塚电子(晶圆、覆膜测厚仪)

  2. 日本FLUORO福乐(用于晶圆的搬运)

  3. 日本AND艾安得(微量电子 分析天平)

  4. 英国Meech密其(非接触式除尘系统)

  5. 日本SSD西西蒂(防静电设备)

  6. 日本NEW-COSMOS 新宇宙(气体检测仪

  7. YIZOMO一子沫(拉拔机)

  8. 日本FURUPLA富如拉(喷壶)

  9. 日本PISCO匹士克(气动元件

  10. 日本TECHNO特古罗(锡炉)

  11. 日本AMANO安满能(除尘设备)

  12. 日本MALCOM马康(粘度计)

  13. 日本HOZAN宝山(镊子、钳子等工具)

  14. 日本MITUTOYO三丰 (测量器具)

  15. 美国SIMCO思美高(防静电、除尘产品);

成都藤田科技为广大客户提供一体化、全面、优质高效服务。

 

 

 

进出口业务,日本武藏点胶机,日本豪雅检测光源,海康视觉成像,安泰信焊锡设备

产地类别 进口 价格区间 面议
应用领域 综合

日本Otsuka大塚FE-300光谱分析膜厚量测仪-成都藤田科技提供

日本Otsuka大塚FE-300光谱分析膜厚量测仪


产品信息

特殊长度

● 支持从薄膜到厚膜的各种薄膜厚度

● 使用反射光谱分析薄膜厚度

● 实现非接触、非破坏的高精度测量,同时体积小、价格低

● 简单的条件设置和测量操作!任何人都可以轻松测量薄膜厚度

● 通过峰谷法、频率分析法、非线性最小二乘法、优化法等,可以进行多种膜厚测量。

● 非线性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以进行光学常数分析(n:折射率,k:消光计数)。

测量项目

反射率测量

膜厚分析(10层)

光学常数分析(n:折射率,k:消光计数)

测量对象

功能膜、塑料
透明导电膜(ITO、银纳米线)、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合剂、胶粘剂、保护膜、硬涂层、防指纹, 等等。

半导体
化合物半导体、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、蓝宝石等。

表面处理
DLC涂层、防锈剂、防雾剂等。

光学材料
滤光片、增透膜等。

FPD
LCD(CF、ITO、LC、PI)、OLED(有机膜、封装材料)等

其他
HDD、磁带、建筑材料等


原理

测量原理

大冢电子利用光学干涉仪和自有的高精度分光光度计,实现非接触、无损、高速、高精度的薄膜厚度测量。光学干涉测量法是一种使用分光光度计的光学系统获得的反射率来确定光学膜厚的方法,如图 2 所示。以涂在金属基板上的薄膜为例,如图1所示,从目标样品上方入射的光被薄膜表面(R1)反射。此外,穿过薄膜的光在基板(金属)和薄膜界面(R2)处被反射。测量此时由于光程差引起的相移所引起的光学干涉现象,并根据得到的反射光谱和折射率计算膜厚的方法称为光学干涉法。分析方法有四种:峰谷法、频率分析法、非线性最小二乘法和优化法。

日本Otsuka大塚FE-300光谱分析膜厚量测仪

规格

规格

类型薄膜型标准型
测量波长范围300-800nm450-780nm
测量膜厚范围
(SiO 2换算)
3nm-35μm10nm-35μm
光斑直径φ3mm / φ1.2mm
样本量φ200×5(高)mm
测量时间0.1-10s内
电源AC100V ± 10% 300VA
尺寸、重量280 (W) x 570 (D) x 350 (H) 毫米,24 公斤
其他参考板,配方创建服务


设备配置

光学家谱

日本Otsuka大塚FE-300光谱分析膜厚量测仪  


软件画面

日本Otsuka大塚FE-300光谱分析膜厚量测仪


日本Otsuka大塚FE-300光谱分析膜厚量测仪-成都藤田科技提供













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