无掩模光刻机

托托科技推出的无掩模光刻机采用前沿的技术，提供了多种型号以满足不同的需求。这些光刻机基于空间光调制器原理，摆脱了传统实体掩模的限制，以其高精度、高效率和高灵活性而受到用户的青睐。我们主要应用于科学研究、小批量多种类的生产等领域，如掩模版制造、二维材料器件、微流道芯片和MEMS器件等。托托科技的光刻机产品线包括多个版本可供选择：

科研版（ACA系列）：此型号基于空间光调制技术，实现了数字掩膜光刻。它具有长寿命、高功率的紫外光源，设备稳定且操作简单。其特色功能包括原位光绘和交互式套刻指引，使得光刻和套刻更加精准和容易。

教育版（Young）：这是一款桌面型无掩膜光刻机，灵活小巧，非常适合用于微电子、集成电路等领域的实验课程。

高速版（Speed）：这个版本具备更快的加工速度和更强的设备性能，适用于小批量生产制造。

托托科技的无掩模光刻机具有多种优势，如无需掩模版的灵活性、高加工精度（可达400 nm）、高速度（可达1200 mm²/min）以及大加工幅面（可达2 m²）。此外，我们还提供了4096阶的灰度光刻能力，能够构建出具有高度复杂且细腻层次变化的微观结构或图案。

托托科技的光刻机凭借其性能和灵活的技术，在多个高科技领域得到了广泛应用。无论是二维材料的精准加工、微流控芯片的复杂制作，还是MEMS器件的精细制造，托托科技的光刻机都能提供高效解决方案。同时，它在微透镜、光学衍射器件、浮雕结构、超表面以及量子光学等前沿领域也展现出强大的应用潜力，为科学研究和技术创新提供了有力支持。